納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。

EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印特點(diǎn)

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

臺積電納米壓印EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。

       通過中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施，WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預(yù)期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能，商用波導(dǎo)來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識，到2019年，AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場，這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位。

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用，并遵循公司模塊計(jì)劃的推出。 EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺，可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項(xiàng)目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項(xiàng)目）

10.在強(qiáng)光照射下對HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相

資料來源：EVG EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印代理商

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。襯底納米壓印特點(diǎn)

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

■用于全場納米壓印應(yīng)用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

■粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章

襯底納米壓印特點(diǎn)