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EVG610納米壓印優(yōu)惠價格

來源: 發(fā)布時間:2021-05-08

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場領先的晶圓鍵合技術。EVG610納米壓印優(yōu)惠價格

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線,包括不同的全 面積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和最少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術。


IQAligner納米壓印免稅價格HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。

SmartNIL是行業(yè)領先的NIL技術,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合,可實現(xiàn)無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本,大批量替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。

納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從最 大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。

    具體說來就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域,并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。(來自網(wǎng)絡。EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸最 大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。廣東晶圓納米壓印

SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量。EVG610納米壓印優(yōu)惠價格

EVG ® 770特征:

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理


EVG ® 770技術數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

首 個印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印記區(qū)域:長達50 x 50毫米

自動分離:支持的


前處理:涂層:液滴分配(可選)


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,致力于發(fā)展為創(chuàng)新務實、誠實可信的企業(yè)。岱美儀器技術服務深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向導,為客戶提供高品質的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務繼續(xù)堅定不移地走高質量發(fā)展道路,既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,又要聚焦關鍵領域,實現(xiàn)轉型再突破。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表市場,以敏銳的市場洞察力,實現(xiàn)與客戶的成長共贏。

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