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知名納米壓印原理

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-06-30

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹:

EV Group是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)先設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)先設(shè)備供應(yīng)商。知名納米壓印原理

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場領(lǐng)先的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于最小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。


歡迎各位客戶來樣制作,驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。


熱壓印納米壓印價(jià)格怎么樣EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最 大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力,以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。


EVG610特征:

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動和程序控制的曝光間隙

支持最 新的UV-LED技術(shù)

最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版


附加功能:

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。


EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)先的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。

注:*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。三維芯片納米壓印當(dāng)?shù)貎r(jià)格

EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作。知名納米壓印原理

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個(gè)獨(dú)立控制的Z軸,可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)獨(dú)立控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準(zhǔn):≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點(diǎn)膠(可選)

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


知名納米壓印原理

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,該公司其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),具有磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來,一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認(rèn)可與大力支持。

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