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浙江POLOSBEAM-XL光刻機

來源: 發(fā)布時間:2025-08-07

某revolution生物醫(yī)學研究機構致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網(wǎng)絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。亞微米級精度:0.8 μmmost小線寬,支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。浙江POLOSBEAM-XL光刻機

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Polos系列通過無掩模技術減少化學廢料產(chǎn)生,同時低能耗設計(如固態(tài)激光光源)符合綠色實驗室標準。例如,其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%,助力科研機構實現(xiàn)碳中和目標。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南光刻機POLOS μ:超緊湊設計,納米級精度專攻微流控與細胞芯片。

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某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,在鋁合金表面制備出仿荷葉結構的超疏水涂層。其激光直寫技術在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,使材料表面接觸角達 165°,滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,被用于微流控芯片的液滴定向輸運,液滴驅動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

超表面通過納米結構調控光場,傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻機的激光直寫技術在石英基底上實現(xiàn)了亞波長量級的圖案曝光,將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5。某光子學實驗室利用該設備,研制出寬帶消色差超表面透鏡,在 400-1000nm 波長范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結構參數(shù),使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時,推動超表面技術從理論走向集成光學應用。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。Polos-BESM XL:大尺寸加工空間,保留緊湊設計,科研級精度實現(xiàn)復雜結構一次性成型。

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單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構,傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細胞生物學實驗室利用該芯片,將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,分選純度達 98%,較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術已應用于循環(huán)tumor細胞檢測,使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,相關設備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。生物界面創(chuàng)新:微納結構可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。吉林德國POLOS光刻機MAX層厚可達到10微米

多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。浙江POLOSBEAM-XL光刻機

在科研領域,設備的先進程度往往決定了研究的深度與廣度。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機 POLOS μ 帶來了革新之光。它們運用無掩模激光光刻技術,摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模,極大降低了成本。這些光刻機可輕松輸入任意圖案進行曝光,在微流體、電子學和納 / 微機械系統(tǒng)等領域大顯身手。例如在微流體研究中,能precise制造復雜的微通道網(wǎng)絡,助力藥物傳輸、細胞培養(yǎng)等研究。在電子學方面,可實現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,對于空間有限的研究實驗室來說堪稱完美。憑借出色特性,它們已助力眾多科研團隊取得成果,成為科研創(chuàng)新的得力助手 。浙江POLOSBEAM-XL光刻機

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