在光學(xué)儀器的裝配過程中，濕度的控制同樣關(guān)鍵。濕度過高容易使光學(xué)鏡片表面產(chǎn)生水汽凝結(jié)，形成水漬，不僅影響鏡片的外觀，還會(huì)降低鏡片的光學(xué)性能。此外，高濕度環(huán)境還可能導(dǎo)致金屬部件生銹腐蝕，影響儀器的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性和使用壽命。精密環(huán)控柜通過調(diào)節(jié)濕度，確保鏡片在裝配過程中始終處于干燥、潔凈的環(huán)境中，有效避免了上述問題的發(fā)生。這使得生產(chǎn)出的光學(xué)儀器，無論是用于科研領(lǐng)域的顯微鏡、望遠(yuǎn)鏡，還是用于工業(yè)檢測(cè)的投影儀、測(cè)量?jī)x等，都能具備光學(xué)性能和穩(wěn)定性，滿足不同行業(yè)對(duì)高精度光學(xué)儀器的需求。設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性極強(qiáng)，8 小時(shí)內(nèi)可達(dá)±0.5%。湖北抗微震恒溫恒濕

設(shè)備運(yùn)行靜音高效是精密環(huán)控柜的又一優(yōu)勢(shì)。采用的 EC 風(fēng)機(jī)，具備更高效、更強(qiáng)大、更安靜的運(yùn)行特點(diǎn)。相比傳統(tǒng)風(fēng)機(jī)，EC 風(fēng)機(jī)能夠在提供充足風(fēng)量的同時(shí)，有效降低能耗，提高能源利用效率。制冷單元內(nèi)部采用高效隔音材質(zhì)，進(jìn)一步降低設(shè)備噪音，使其運(yùn)行噪音小于 45dB 。噪音作為一種能量對(duì)于生產(chǎn)過程存在難以忽視的影響，極低的噪音恰恰能防止設(shè)備收到干擾，影響生產(chǎn)環(huán)境。高效的運(yùn)行則保證了設(shè)備能夠快速、穩(wěn)定地調(diào)節(jié)溫濕度和潔凈度，滿足各類精密實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)的需求。山東芯片光刻恒溫恒濕采用先進(jìn)的智能自控系統(tǒng)，根據(jù)監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)自動(dòng)調(diào)節(jié)環(huán)境參數(shù)，符合溫濕度波動(dòng)要求。

對(duì)于光學(xué)儀器，溫度哪怕有細(xì)微變化，都會(huì)引發(fā)諸多問題。由于大多數(shù)光學(xué)儀器采用了玻璃鏡片、金屬鏡筒等不同材質(zhì)的部件，這些材料熱膨脹系數(shù)各異。當(dāng)溫度升高時(shí)，鏡片會(huì)膨脹，鏡筒等支撐結(jié)構(gòu)也會(huì)發(fā)生相應(yīng)變化，若膨脹程度不一致，就會(huì)使鏡片在鏡筒內(nèi)的位置精度受到影響，光路隨之發(fā)生偏差。例如在顯微鏡觀察中，原本清晰聚焦的樣本圖像會(huì)突然變得模糊，科研人員無法準(zhǔn)確獲取樣本細(xì)節(jié)，影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。對(duì)于望遠(yuǎn)鏡而言，溫度波動(dòng)導(dǎo)致的光路變化，會(huì)讓觀測(cè)天體時(shí)的成像偏離理想位置，錯(cuò)過重要天文現(xiàn)象的記錄。

光刻設(shè)備對(duì)溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域，以實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠的曝光，將設(shè)計(jì)好的電路圖案印制上去。當(dāng)環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動(dòng)，哪怕只是零點(diǎn)幾攝氏度的變化，光刻機(jī)內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會(huì)因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細(xì)微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會(huì)使得光路發(fā)生偏差。原本校準(zhǔn)、聚焦于硅片特定坐標(biāo)的光線，就可能因?yàn)楣饴返母淖兌�偏離預(yù)定的曝光位置，出現(xiàn)曝光位置的漂移。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)潔凈度百級(jí)、十級(jí)、一級(jí)，溫度波動(dòng)值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃。

我司憑借深厚的技術(shù)積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù)，精度高達(dá) 0.1% 的控制輸出。溫度波動(dòng)值可實(shí)現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實(shí)現(xiàn)百級(jí)、十級(jí)、一級(jí)。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類對(duì)溫度極度敏感的項(xiàng)目，打造了近乎完美的溫場(chǎng)環(huán)境，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時(shí)，設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達(dá)±0.5%@8h，壓力穩(wěn)定性可達(dá)+/-3Pa，長(zhǎng)達(dá) 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長(zhǎng)時(shí)間實(shí)驗(yàn)和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實(shí)現(xiàn)百級(jí)以上潔凈度控制，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。精密環(huán)境控制設(shè)備內(nèi)部，關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)下溫度穩(wěn)定性高，可達(dá) +/-5mK 精度。山東芯片光刻恒溫恒濕

涉及超高精度的環(huán)境要求，如±0.01-0.1℃，甚至更高要求，則需要在精密恒溫恒濕超凈間中搭建精密環(huán)控系統(tǒng)。湖北抗微震恒溫恒濕

芯片蝕刻時(shí)，刻蝕速率的均勻性對(duì)芯片電路完整性至關(guān)重要。溫度波動(dòng)如同 “蝴蝶效應(yīng)”，可能引發(fā)刻蝕過度或不足。精密環(huán)控柜穩(wěn)定的溫度控制，以及可達(dá) ±0.5%@8h 的濕度穩(wěn)定性，有效避免因環(huán)境因素導(dǎo)致的刻蝕異常，保障芯片蝕刻質(zhì)量。芯片沉積與封裝過程中，精密環(huán)控柜的超高水準(zhǔn)潔凈度控制發(fā)揮關(guān)鍵作用。其可實(shí)現(xiàn)百級(jí)以上潔凈度控制，內(nèi)部潔凈度優(yōu)于 ISO class3，杜絕塵埃顆粒污染芯片，防止水汽對(duì)芯片材料的不良影響，確保芯片沉積層均勻、芯片封裝可靠。湖北抗微震恒溫恒濕