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廣東光刻機推薦產品

來源: 發(fā)布時間:2023-11-29

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EVG®610掩模對準系統(tǒng)■晶圓規(guī)格:100mm/150mm/200mm■頂/底部對準精度達到±0.5μm/±1.0μm■用于雙面對準高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡■軟件,硬件,真空和接近式曝光■自動楔形補償■鍵合對準和NIL可選■支持蕞新的UV-LED技術EVG®620NT/EVG®6200NT掩模對準系統(tǒng)(自動化和半自動化)■晶圓產品規(guī)格:150mm/200mm■接近式楔形錯誤補償■多種規(guī)格晶圓轉換時間少于5分鐘■初次印刷高達180wph/自動對準模式為140wph■可選獨力的抗震型花崗巖平臺■動態(tài)對準實時補償偏移■支持蕞新的UV-LED技術安徽光刻機價格怎么樣EVG101是光刻膠處理,EVG105是光刻膠烘焙機,EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。

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EVG的掩模對準系統(tǒng)含有:EVG610;EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng);EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng);IQAligner自動掩模對準系統(tǒng);IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng);【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R&d系統(tǒng),可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術數(shù)據(jù):EVG610支持多種標準光刻工藝,例如真空,硬,軟和接近曝光模式,并可選擇背面對準功能。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,可滿足用戶需求的變化,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其非常適合大學和研發(fā)應用。IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。

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EVG®610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補償全自動軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達100/150/200毫米;曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進的對準功能:手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準;EVG®610光刻機系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術為“無紫外線”。EVG已經與研究機構合作超過35年,可以深入了解他們的獨特需求。傳感器光刻機試用

我們可以根據(jù)您的需求提供優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。廣東光刻機推薦產品

EVG®150--光刻膠自動處理系統(tǒng)EVG®150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米。EVG150設計為完全模塊化的平臺,可實現(xiàn)自動噴涂/旋轉/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術進行均勻涂覆,而傳統(tǒng)的旋涂技術則受到限制。EVG®150特征:晶圓尺寸可達300毫米多達六個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載廣東光刻機推薦產品

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