為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時(shí)間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實(shí)現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 實(shí)驗(yàn)室納米壓印價(jià)格怎么樣SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。

納米壓印應(yīng)用一：鏡片成型

晶圓級光學(xué)（WLO）的制造得到EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級鏡頭復(fù)制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量。

      **的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group（EVG）進(jìn)行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的**供應(yīng)商，以帶來高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（ AR）波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界*低的成本進(jìn)入大眾市場。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光學(xué)組件。

      WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關(guān)系標(biāo)志著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)行業(yè)的轉(zhuǎn)折點(diǎn)，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)解決方案的關(guān)鍵步驟，這是迄今為止尚無法實(shí)現(xiàn)的能力?！?EVG的專業(yè)知識與我們可擴(kuò)展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價(jià)格將低于600美元?！斑@項(xiàng)合作是釋放AR可穿戴設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴(kuò)展性的新途徑。” 納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù)，大批量替代光刻技術(shù)。浙江納米壓印微流控應(yīng)用

步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美有限公司。

MEMS納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價(jià)格合理，品質(zhì)有保證。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn)，為客戶成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持。