EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術(shù)，提供了無與倫比的印跡形大面積

經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（最 大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對(duì)準(zhǔn)：可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：≤±15 μm

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

SmartNIL技術(shù)可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。青海納米壓印推薦產(chǎn)品

EVG ® 720特征：

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)最 佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG6200NT納米壓印推薦型號(hào)EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于最小50 nm的特征尺寸。

    面板廠為補(bǔ)償較低的開口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡(luò)。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作

EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從最

大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。

    據(jù)外媒報(bào)道，美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大 大簡(jiǎn)化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問題。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。微接觸納米壓印技術(shù)服務(wù)

岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。青海納米壓印推薦產(chǎn)品

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

可選的自動(dòng)盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

首 個(gè)印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達(dá)50 x 50毫米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

青海納米壓印推薦產(chǎn)品

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批獨(dú)立的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。