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光干涉膜厚儀競爭力怎么樣

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-02-23

FSM 360 拉曼光譜系統(tǒng)

FSM紫外光和可見光拉曼系統(tǒng), 型號360

FSM拉曼的應(yīng)用

l  局部應(yīng)力;

l  局部化學(xué)成分

l  局部損傷

紫外光可測試的深度

優(yōu) 秀的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應(yīng)力



可見光可測試的深度

良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力

系統(tǒng)測試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1)

全自動(dòng)的200mm和300mm硅片檢查

自動(dòng)檢驗(yàn)和聚焦的能力。


以上的信息比較有限,如果您有更加詳細(xì)的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們的技術(shù)人員為您解答?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)了解更多信息。 幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。光干涉膜厚儀競爭力怎么樣

FSM膜厚儀簡單介紹:

FSM 128 厚度以及TSV和翹曲變形測試設(shè)備:

美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設(shè)備,客戶遍布全世界, 主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測量設(shè)備: 三維輪廓儀、拉曼光譜、

薄膜應(yīng)力測量設(shè)備、 紅外干涉厚度測量設(shè)備、電學(xué)測量設(shè)備:高溫四探針測量設(shè)備、非接觸式片電阻及 漏電流測量設(shè)備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析 (EOT)。

請?jiān)L問我們的中文官網(wǎng)了解更多的信息。 掩模對準(zhǔn)膜厚儀用途F40測量范圍;20nm-40μm;波長:400-850nm。

F60 系列

包含的內(nèi)容:集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置(不含平臺(tái))4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈

型號厚度范圍*波長范圍

F60-t:20nm-70μm 380-1050nm

F60-t-UV:5nm-40μm 190-1100nm

F60-t-NIR:100nm-250μm 950-1700nm

F60-t-EXR:20nm-250μm 380-1700nm

F60-t-UVX:5nm-250μm 190-1700nm

F60-t-XT0:2μm-450μm 1440-1690nm

F60-t-s980:4μm-1mm 960-1000nm

F60-t-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm

F60-t-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處:每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃

F3-CS:

Filmetrics的F3-CS 專門為了微小視野及微小樣品測量設(shè)計(jì), 任何人從一線操作到研&發(fā)人員都可以此簡易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測量如聚對二甲苯和真空鍍膜層厚度.

我們具專利的自動(dòng)校正功能大幅縮短測量設(shè)置並可自動(dòng)調(diào)節(jié)儀器的靈敏度, 使用免手持測量模式時(shí), 只需簡單地將樣品面朝下放置在平臺(tái)上測量樣品 , 此時(shí)該系統(tǒng)已具備可測量數(shù)百種膜層所必要的一切設(shè)置不管膜層是否在透明或不透明基底上.

快速厚度測量可選配FILMeasure厚度測量軟件使厚度測量就像在平臺(tái)上放置你的樣品一樣容易, 軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導(dǎo)體層(包括C,N和HT型聚對二甲苯)的光學(xué)常數(shù)(n和k),厚度結(jié)果會(huì)及時(shí)的以直覺的測量結(jié)果顯示對于進(jìn)階使用者,可以進(jìn)一步以F3-CS測量折射率, F3-CS可在任何運(yùn)行Windows XP到 Windows8 64位作業(yè)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)上運(yùn)行, USB電纜則提供電源和通信功能. 產(chǎn)品型號:FSM 413EC, FSM 413MOT,F(xiàn)SM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C。

F30包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光斑尺寸10微米的單點(diǎn)測量平臺(tái)FILMeasure 8反射率測量軟件Si 參考材料FILMeasure 獨(dú)立軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)

額外的好處:每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃

型號厚度范圍*波長范圍

F3-s 980:10μm - 1mm  960-1000nm

F3-s1310:15μm - 2mm 1280-1340nm 

F3-s1550:25μm - 3mm 1520-1580nm

*取決于薄膜種類 F40-UV范圍:4nm-40μm,波長:190-1100nm。半導(dǎo)體薄膜膜厚儀質(zhì)量怎么樣

F50-NIR測厚范圍:100nm-250μm;波長:950-1700nm。光干涉膜厚儀競爭力怎么樣

集成電路故障分析故障分析 (FA) 技術(shù)用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。

故障分析中需要進(jìn)行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝) 和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度,并了解在每個(gè)薄化步驟后剩余的硅厚度是相當(dāng)關(guān)鍵的。 Filmetrics F3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設(shè)計(jì)的系統(tǒng)。 厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量,另外可選配模組來延伸最小測量厚度至0.1微米,同時(shí)具有單點(diǎn)和多點(diǎn)測繪的版本可供選擇。

測量范例現(xiàn)在我們使用我們的 F3-s1550 系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學(xué)設(shè)計(jì)之 F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度 光干涉膜厚儀競爭力怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場口碑。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢,打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場,依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力,融合前沿的技術(shù)理念,飛快響應(yīng)客戶的變化需求。

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