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山東聯(lián)電納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2021-03-04

納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構進行直接圖案化。這種方法允許從最 大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。山東聯(lián)電納米壓印

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球領先的為微機電系統(tǒng)、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商,今 天宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于領先地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設備,例如生物特征身份認證,面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設備與應用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎設施包括領先技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備,例如分步重復母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL?技術,晶圓鍵合與必要的測量設備。碳化硅納米壓印報價EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術,但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長,經(jīng)過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產(chǎn)的時程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網(wǎng)絡。

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持最 新的UV-LED技術

最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:最 大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:最 大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),從碎片到最 大150毫米。

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。


EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。江西納米壓印推薦型號

EVG提供不同的全 面積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。山東聯(lián)電納米壓印

EVG ® 720特征:

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼,可實現(xiàn)最 佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:可選的頂部對準

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


山東聯(lián)電納米壓印

岱美儀器技術服務(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術為先導,以產(chǎn)品為平臺,以應用為重點,以服務為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,提供更優(yōu)服務。岱美儀器技術服務始終關注自身,在風云變化的時代,對自身的建設毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術服務在行業(yè)的從容而自信。

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