EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng)：
各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度
液體底漆/預(yù)濕/洗盤(pán)
去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）
恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)
電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能
可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸
超音波
附加模塊選項(xiàng)
預(yù)對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)/機(jī)械
ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣
系統(tǒng)控制：
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器
靈活的流程定義/易于拖放的程序編程
并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn)，診斷和故障排除
多語(yǔ)言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm。高校光刻機(jī)輪廓測(cè)量應(yīng)用
EVG ® 120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)
EVG ® 120是用于當(dāng)潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。
新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì)，并帶有新開(kāi)發(fā)的化學(xué)柜，可用于外部存儲(chǔ)化學(xué)品，同時(shí)提供更高的通量能力，針對(duì)大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無(wú)法比擬的，并保證了最/高的質(zhì)量各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)，擁有成本卻非常低。
半導(dǎo)體光刻機(jī)技術(shù)支持EVG101光刻膠處理機(jī)可支持最/大300 mm的晶圓。
EVG ® 620 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動(dòng)/自動(dòng)）
特色：EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在最小化的占位面積，支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。
技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng)，在最小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和最/優(yōu)化的總體擁有成本，提供了最/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。
EVG®610 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
■ 晶圓規(guī)格
：100 mm / 150 mm / 200 mm
■ 頂/底部對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm
■ 用于雙面對(duì)準(zhǔn)高/分辨率頂部和底部分裂場(chǎng)顯微鏡
■ 軟件，硬件，真空和接近式曝光
■ 自動(dòng)楔形補(bǔ)償
■ 鍵合對(duì)準(zhǔn)和NIL可選
■ 支持最/新的UV-LED技術(shù)
EVG®620 NT / EVG®6200 NT
掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（自動(dòng)化和半自動(dòng)化）
■ 晶圓產(chǎn)品規(guī)格
：150 mm / 200 mm
■ 接近式楔形錯(cuò)誤補(bǔ)償
■ 多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時(shí)間少于5分鐘
■ 初次印刷高達(dá)180 wph / 自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)模式為140 wph
■ 可選獨(dú)立的抗震型花崗巖平臺(tái)
■ 動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)實(shí)時(shí)補(bǔ)償偏移
■ 支持最/新的UV-LED技術(shù) 岱美是EVG光刻機(jī)在中國(guó)的代理商，提供本地化的優(yōu)質(zhì)服務(wù)。
EVG ® 150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)
EVG ® 150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。
EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過(guò)程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。具有高形貌的晶片可以通過(guò)EVG的OmniSpray 技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆，而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制。
EVG ® 150特征：
晶圓尺寸可達(dá)300毫米
多達(dá)六個(gè)過(guò)程模塊
可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆
多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載
EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。微流體光刻機(jī)可以試用嗎
EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標(biāo)準(zhǔn)。高校光刻機(jī)輪廓測(cè)量應(yīng)用
隨著儀器儀表和計(jì)算機(jī)的完美結(jié)合，為了更好的滿足人們對(duì)精神世界的需求，體驗(yàn)多維世界給人們帶來(lái)的快感，儀器儀表的虛擬化開(kāi)始發(fā)展。身臨其境接受客觀實(shí)物，給美又增添了一絲創(chuàng)意。我國(guó)現(xiàn)有有限責(zé)任公司企業(yè)數(shù)千多家，已經(jīng)形成門(mén)類(lèi)品種比較齊全，具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時(shí)業(yè)內(nèi)行家也指出，雖然我國(guó)測(cè)試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展，但遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足國(guó)民經(jīng)濟(jì)各行各業(yè)日益增長(zhǎng)的迫切需求。磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)產(chǎn)業(yè)是國(guó)民經(jīng)濟(jì)的基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭，對(duì)促進(jìn)工業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動(dòng)現(xiàn)代國(guó)防建設(shè)、保證和提高大家生活水平具有重要作用。中國(guó)其他型正面臨百年未有之大變局，行業(yè)行家認(rèn)為，中美貿(mào)易戰(zhàn)不會(huì)有終點(diǎn)，中美關(guān)系時(shí)好時(shí)壞將成為常態(tài)，儀器儀表行業(yè)無(wú)法排除大局勢(shì)的影響，且不要把問(wèn)題聚焦在關(guān)稅上。中國(guó)經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國(guó)制造的競(jìng)爭(zhēng)力在于工業(yè)門(mén)類(lèi)齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專(zhuān)業(yè)和細(xì)分。高校光刻機(jī)輪廓測(cè)量應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)管理的追求。公司自創(chuàng)立以來(lái)，投身于磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對(duì)用戶產(chǎn)品上的貼心，為用戶帶來(lái)良好體驗(yàn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲，始終關(guān)注客戶，創(chuàng)新科技，竭誠(chéng)為客戶提供良好的服務(wù)。