EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以最小的占地面積提供了最

新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。

EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。湖北半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足最 高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑最 大為200 mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。

如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 碳化硅納米壓印干涉測量應(yīng)用 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因?yàn)樗宰钚〉恼嘉幻娣e提供了最 新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無與倫比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。

EVG610特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動和程序控制的曝光間隙

支持最 新的UV-LED技術(shù)

最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

EVG610附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：最 大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：最 大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積無與倫比的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的最經(jīng)濟(jì)有效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為最小的結(jié)構(gòu)提供最 佳的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)備功能（包括無與倫比的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場領(lǐng)先設(shè)備供應(yīng)商。EVG720納米壓印美元價

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。湖北半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對zui復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們今 天與AR領(lǐng)域的領(lǐng) 先者WaveOptics合作所要做的，以為zui終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用，并遵循公司模塊計(jì)劃的推出。 湖北半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，一直“以人為本，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽(yù)，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則，致力于提供高質(zhì)量的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、高品質(zhì)的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來！