EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術和工藝以應對zui復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產品創(chuàng)意商業(yè)化。技術，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a階段的產品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們今 天與AR領域的領 先者WaveOptics合作所要做的，以為zui終客戶提供真正可擴展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。EVG納米壓印供應商家

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個獨立控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

三個獨立控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

河南納米壓印有哪些應用EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨立對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站

EVG ® 510 HE技術數(shù)據(jù)：

加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米

最 大基板尺寸：150毫米，200毫米

最小基板尺寸：單芯片，100毫米

最 大接觸力：10、20、60 kN

最 高溫度：標準：350°C；可選：550°C

夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

最小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學元件（DOE）至關重要。

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以最小的占地面積提供了最

新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。甘肅納米壓印技術服務

SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產。EVG納米壓印供應商家

    面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡。EVG納米壓印供應商家

岱美儀器技術服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務實、誠實可信的企業(yè)。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表行業(yè)。滿足市場需求，提高產品價值，是我們前行的力量。