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EV Group納米壓印微流控應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-12-24

HERCULES NIL 300 mm提供了市場(chǎng)上最 先 進(jìn)的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)(AR / VR)頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,3D傳感器,生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。


HERCULES ® NIL特征:

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。EV Group納米壓印微流控應(yīng)用

SmartNIL技術(shù)簡(jiǎn)介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。


HERCULES NIL納米壓印售后服務(wù)EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)先的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于最小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。


歡迎各位客戶來樣制作,驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。


EVG ® 720特征:

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)最 佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn):可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

自動(dòng)分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于最小50 nm的特征尺寸。

    據(jù)外媒報(bào)道,美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大 大簡(jiǎn)化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱,這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。官方納米壓印可以免稅嗎

IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。EV Group納米壓印微流控應(yīng)用

HERCULES ® NIL特征:

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn):≤±3微米

自動(dòng)分離:支持的

前處理:提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EV Group納米壓印微流控應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營(yíng)理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念,全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。

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