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本實用新型涉及真空鍍膜機技術領域，具體為一種磁控濺射真空鍍膜機。背景技術：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材，基片與靶材同在真空腔中，濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且**終沉積在基片表面，經歷成膜過程(散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長)，**終形成薄膜。目前市場上類似的磁控濺射真空鍍膜機在長時間使用后，會在鍍膜機腔體的內壁粘黏有靶材和雜質，通常需要裝卸內部的轉動架，用人工的方式對腔體內壁進行定時維護，手動清理擦拭，費時費力，清理效率低，為了解決上述問題，我們提出一種磁控濺射真空鍍膜機。技術實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供一種磁控濺射真空鍍膜機，以解決上述背景技術中提出的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種磁控濺射真空鍍膜機，包括控制箱，所述控制箱的上表面后側固定安裝后罐體，所述后罐體的前表面鉸接有前罐體，所述后罐體的前表面上側固定安裝有驅動裝置，所述驅動裝置，所述驅動裝置的下側安裝有清理裝置，所述清理裝置包括u形架。

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因此可以有效減少工藝原料的浪費，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時，由于工藝反應區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內的溫度，使該區(qū)域內的工藝溫度更易于均勻化，進而提高工藝質量。附圖說明此處的附圖被并入說明書中并構成本說明書的一部分，示出了符合本實用新型的實施例，并與說明書一起用于解釋本實用新型的原理。為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，對于本領域普通技術人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實用新型一種實施方式的真空反應腔室的結構示意圖；圖2為圖1所示結構中的剖視結構示意圖；圖3為設置于第二底板底部的溫控管的結構示意圖。圖標：10-外腔體；11-寶來利真空底板；12-寶來利真空側壁；13-傳送裝置；20-內反應腔；21-第二底板；22-第二側壁；23-自動門；30-密封蓋板；40-溫控管；41-恒溫控制器。具體實施方式為使本實用新型實施例的目的、技術方案和***更加清楚，下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然。寶來利晶圓真空鍍膜機性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細膩有光澤，有需要可以來咨詢！江蘇汽車格柵真空鍍膜機推薦貨源

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以及位于所述外腔體內的用于進行工藝反應的內反應腔；所述內反應腔的側壁上設有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經所述自動門進入所述內反應腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁；所述內反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置，所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置；所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地，所述自動門設置于所述第二側壁上，所述外腔體內設有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經所述自動門傳遞至所述內反應腔中。進一步地，所述第二底板和/或所述第二側壁上設有用于對所述內反應腔進行控溫的溫控裝置。進一步地，所述溫控裝置包括溫控管，所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地，所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地，所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管；所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地，所述溫控管纏繞于所述第二側壁的外部，且所述溫控管鋪設于所述第二底板的底部。上海真空鍍鉻真空鍍膜機