平面工藝MOS

定義和原理

平面工藝MOS是一種傳統(tǒng)的MOSFET加工技術(shù)，其結(jié)構(gòu)較為簡單。在平面工藝中，源極、漏極和柵極均位于同一平面上，形成一個二維結(jié)構(gòu)。

制造過程

沉積層：先在硅襯底上生長氧化層。

摻雜：使用摻雜技術(shù)在特定區(qū)域引入雜質(zhì)，形成源、漏區(qū)。

蝕刻：利用光刻技術(shù)和蝕刻工藝形成溝道區(qū)域。

金屬沉積：在柵極位置沉積金屬，形成柵極電極。

特點(diǎn)

制作工藝相對簡單和成本較低。

結(jié)構(gòu)平面化，適用于小功率、低頻應(yīng)用。

但存在柵極控制能力差、漏電流大等缺點(diǎn)。 商甲半導(dǎo)體Fabless 模式解特殊匹配難題，多平臺量產(chǎn)，產(chǎn)品導(dǎo)通特性強(qiáng)，應(yīng)用場景多元。徐州質(zhì)量MOSFET選型參數(shù)

商甲半導(dǎo)體經(jīng)營產(chǎn)品：N溝道m(xù)osfet、P溝道m(xù)osfet、N+P溝道m(xù)osfet(Trench/SGT 工藝）、超結(jié)SJ mosfet等。

超結(jié)MOS（SuperJunctionMetal-Oxide-Semiconductor，簡稱SJ-MOS）是電力電子領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的一類功率器件，其主要特征是在傳統(tǒng)MOSFET基礎(chǔ)上引入了超結(jié)結(jié)構(gòu)，使其在高電壓、大電流條件下具備更優(yōu)越的性能。超結(jié)MOS器件相較于傳統(tǒng)的MOSFET有著更低的導(dǎo)通電阻和更高的耐壓性能，廣泛應(yīng)用于高效能電力轉(zhuǎn)換領(lǐng)域，如開關(guān)電源、逆變器、電動汽車、光伏發(fā)電等。

而超結(jié)MOS也是為了解決額定電壓提高而導(dǎo)通電阻增加的問題，超結(jié)結(jié)構(gòu)MOSFET在D端和S端排列多個垂直pn結(jié)的結(jié)構(gòu)，其結(jié)果是在保持高電壓的同時實(shí)現(xiàn)了低導(dǎo)通電阻。超級結(jié)的存在**突破了硅的理論極限，而且額定電壓越高，導(dǎo)通電阻的下降越明顯。以下圖為例，超結(jié)在S端和D端增加了長長的柱子，形成垂直的PN結(jié)，交替排列。N層和P層在漂移層中設(shè)置垂直溝槽，當(dāng)施加電壓時耗盡層水平擴(kuò)展，很快合并形成與溝槽深度相等的耗盡層。耗盡層*擴(kuò)展至溝槽間距的一半，因此形成厚度等于溝槽深度的耗盡層。耗盡層的膨脹小且良好，允許漂移層雜質(zhì)濃度增加約5倍，從而可以降低RDS(ON) 廣東MOSFET選型參數(shù)技術(shù)預(yù)計到2025年，功率半導(dǎo)體在新能源汽車領(lǐng)域國產(chǎn)化率將達(dá)20%-25% 。

選擇使用MOSFET還是Trench工藝MOSFET需要考慮以下幾個因素:

1.功能需求:

首先需要明確所需的功能和性能要求。例如，如果需要高功率處理和低漏電流特性，則Trench工藝MOSFET可能更適合。如果需要較高的開關(guān)速度則***NAR工藝MOSFET可能更適合。

2.功耗和效率:

需要考慮設(shè)備的功耗和效率需求。Trench工藝MOSFET具有較低的導(dǎo)通電阻適用于高效率的功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用。***NAR工藝MOSFET則在一些低功耗應(yīng)用中表現(xiàn)較好。

3.溫度特性:

需要考慮設(shè)備溫度特性等因素。取決于器件結(jié)構(gòu)和材料選擇。一般來說，Trench工藝MOSFET具有較好的封裝和散熱能力，可在高溫環(huán)境下工作并具有較低的漏電流。但一般工控上選擇推薦選擇平面工藝，因為要求穩(wěn)定可靠，一致性好，抗沖擊力強(qiáng)，對于散熱可以采用其它措施彌補(bǔ)。也就是，我使用的場合決定我們使用哪種工藝MOSFET更合適

區(qū)別與應(yīng)用

區(qū)別

結(jié)構(gòu)：平面工藝MOS為二維結(jié)構(gòu)，Trench工藝為三維結(jié)構(gòu)。

性能：Trench工藝提供更好的性能和效率。

成本：平面工藝成本較低，Trench工藝成本較高。

應(yīng)用

平面工藝MOS適合低功耗、低頻應(yīng)用，如手機(jī)、智能設(shè)備。

Trench工藝適合高功率、高頻應(yīng)用，如高性能計算機(jī)、通信設(shè)備等。

Trench工藝和平面工藝MOS在集成電路制造中各有優(yōu)勢和應(yīng)用領(lǐng)域。選擇何種工藝取決于需求和應(yīng)用場景，平面工藝適用于簡單低功耗應(yīng)用，而Trench工藝則適用于高性能高功率領(lǐng)域。 無錫商甲半導(dǎo)體使用先進(jìn)封裝技術(shù)提供良好的電阻和熱性能,同時縮小尺寸,讓您的系統(tǒng)獲得更佳可靠性和性能。

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（2）技術(shù)突破：國內(nèi)企業(yè)（如華微電子、士蘭微）在SGT/SJ技術(shù)、SiCMOSFET等領(lǐng)域取得***進(jìn)展，部分產(chǎn)品性能已接近國際先進(jìn)水平。

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隨著電子技術(shù)在工業(yè)、交通、消費(fèi)、醫(yī)療等領(lǐng)域的蓬勃發(fā)展，當(dāng)代社會對電力電子設(shè)備的要求也越來越高，功率半導(dǎo)體就是影響這些電力電子設(shè)備成本和效率的直接因素之一。自從二十世紀(jì)五十年代真空管被固態(tài)器件代替以來，以硅(Si)材料為主的功率半導(dǎo)體器件就一直扮演著重要的角色，功率MOSFET是其中**典型的**。

MOSFET，全稱金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管（Metal-Oxide-SemiconductorField-EffectTransistor），是一種非常重要的電子元件，廣泛應(yīng)用于各種電子電路中。它的基本作用是作為一個開關(guān)，控制電流的流動。

徐州質(zhì)量MOSFET選型參數(shù)

無錫商甲半導(dǎo)體有限公司成立于2023年8月3日，注冊地位于無錫經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)太湖灣信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)園1號樓908室。公司專注于功率半導(dǎo)體器件的研發(fā)設(shè)計與銷售，采用Fabless模式開發(fā)Trench MOSFET、IGBT等產(chǎn)品，截至2023年12月，公司已設(shè)立深圳分公司拓展華南市場 ，并獲評2024年度科技型中小企業(yè)。

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