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珠海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件

來源: 發(fā)布時間:2025-07-02

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RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試,X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個樣品的體積,衍射信號弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜。

殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測量,對鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。使用了2D檢測器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。定性相分析:候選材料鑒別(PMI)為常見,這是因為其對原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無法通過元素分析技術(shù)實現(xiàn)。高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以現(xiàn)實孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。小角X射線散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對EIGER2R500K通過2D模式手機(jī)的NISTSRM80119nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測量,對鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。

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對分布函數(shù)分析對分布函數(shù)(PDF)分析是一種分析技術(shù),它基于Bragg衍射以及漫散射(“總散射”),提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中,您可以通過Bragg衍射峰,了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息(即長程有序),通過漫散射,表征其局部結(jié)構(gòu)(即短程有序)。就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案:相鑒定結(jié)構(gòu)測定和精修納米粒度和形狀。在DIFFRAC.TEXTURE中,使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。湖北微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

這種X射線源可提供高亮度光束,對mm大小的樣品研究,或使用μm大小光束進(jìn)行微區(qū)X射線衍射研究的理想選擇。珠海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進(jìn)行分析時,著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的:配置儀器時,免工具、免準(zhǔn)直,同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。珠海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件

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