硼氫化鈉溶于水、液氨、胺類。易溶于甲醇，微溶于乙醇、四氫呋喃。不溶于、苯、烴。在干空氣中穩(wěn)定，在濕空氣中分解，500℃加熱下也分解。通常情況下，硼氫化鈉無法還原酯，酰胺，羧酸及腈類化合物，但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外，可以將酯還原。硼氫化鈉有α、β、γ三種晶型。室溫下是α型的NaCl結構立方晶體；6.3GPa下轉變?yōu)棣滦退姆骄w，8.9GPa下轉變?yōu)棣眯驼恍途w。硼氫化鈉是由H·C·Brown和其導師Schlesinger于1942年在芝加哥大學發(fā)現的。它可以在非常溫和的條件下實現醛酮羰基的還原，生成一級醇、二級醇。寧夏生產銷售硼氫化鈉現貨

  硼氫化鈉應用范圍有哪些？硼氫化鈉可用作醛類、酮類和酰氯類的還原劑，制造硼氫化鉀的中間體，制造乙硼烷和其他高能燃料的原料，用作塑料工業(yè)的發(fā)泡劑，造紙工業(yè)含汞污水的處理劑、造紙漂白劑，以及醫(yī)藥工業(yè)制造雙氫鏈霉素的氫化劑。硼氫化鈉的氫在這里顯-1價，有很強還原性，可以還原有一定氧化性的無機物，它主要用于有機合成中的-COOH還原成-CH2OH，被成為“還原劑”。它的性能穩(wěn)定，還原時有選擇性。硼氫化鈉給有機化學家們提供了一種非常便利溫和的還原醛酮類物質的手段。在此之前，通常要用金屬/醇的辦法來還原羰基化合物，而硼氫化鈉可以在非常溫和的條件下實現醛酮羰基的還原，生成一級醇和二級醇。甘肅現貨供應硼氫化鈉溫度采用階段升溫法，開始用50℃，當反應足夠時間后。

  三乙酰氧基硼氫化鈉其具有極好的普適性和選擇性，反應條件溫和，催化還原性能好，且易于分離純化，催化劑本身和副產物都無毒，對環(huán)境沒有污染，成為還原胺化反應的催化劑。在鉑、鈀或鎳等金屬催化下的催化氫化，該法雖然較為經濟且有適用于大規(guī)模生產的優(yōu)點，但得到的多為混合物，而且產率較低，同時還有局限性，對結構中存在碳碳重鍵和有可被還原的官能團的化合物，如含硝基、氰基的化合物，就不能用催化氫化的方法，而且催化性能常被二價的硫化物所抑制。

    硼氫化鈉是一種它具有較強選擇還原性的無機化合物。在無機合成和有機合成中常用做還原劑，有良好的化學選擇性。它可以在非常溫和的條件下實現醛酮羰基的還原，生成一級醇、二級醇。少量硼氫化鈉可以將腈還原成醛，過量則還原成胺。它能夠將羰基、醛基選擇還原成羥基，也可以將羧基還原為醛基，而不與酯、酰胺作用，一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發(fā)生反應：CH2=CHCH2CHO→CH2=CHCH2CH2OH。4.硼氫化鈉對醛、酮的還原效果比較好。常用溶劑是醇，四氫呋喃，二甲基甲酰胺（DMF），水等。它一般不還原酯基，酰胺，但在高濃度，高溫，配合合適溶劑或用路易斯酸催化時，可以還原酯基等比較弱的羰基。硼氫化鈉在溫和條件下還原醛、酮的基本操作：使用甲醇或者乙醇為溶劑，醛酮羰基化合物與硼氫化鈉的物質的量比為1：1。溫度采用階段升溫法，開始用50℃，當反應足夠時間后，再回流反應，薄層監(jiān)視進度即可。反應一般是很徹底的。一般講，溶劑用量只要能夠滿足反應后不至于形成白色粘漿即可。反應不需要嚴格無水，甚至有用水當作溶劑的例子：比如還原對甲?；郊姿幔€原的是甲?；兹扔脷溲趸c中和了羧基，然后在水中反應即可成功還原甲?；?。 是**為常用的還原劑之一。

  還原胺化反應是指將羰基化合物轉變?yōu)榘返闹匾袡C合成反應，先形成亞胺，然后被硼氫化鈉還原；無論是硼氫化鈉，還是三乙酰氧基硼氫化鈉、氰基硼氫化鈉，還是醋酸硼氫化鈉，差別沒有這么大，只要你形成了亞胺，下一步就是簡單的還原。將羰基跟胺反應生成亞胺（西弗堿），然后用硼氫化鈉或者氰基硼氫化鈉還原成胺。反應應在弱酸條件下進行，因為弱酸條件一方面使羰基質子化增強了親電性促進了反應，另一方面也避免了胺過度質子化造成親核性下降的發(fā)生。用氰代硼氫化鈉比硼氫化鈉要好，因為氰基的吸電誘導效應削弱了硼氫鍵的活性，使得氰代硼氫化鈉只能選擇性地還原西弗堿而不會還原醛、酮的羰基，從而避免了副反應的發(fā)生。用NaBH(OAc)3作還原劑，用ClCH2CH2Cl做溶劑可以縮短反應時間并明顯提高產率。硼氫化鈉的氫在這里顯-1價，有很強還原性，可以還原有一定氧化性的無機物。上海硼氫化鈉廠家現貨

醇和胺類物質中-OH,-NH-,-NH2中的氫都帶有較多的部分正電荷，所以硼氫化鈉中的BH4。寧夏生產銷售硼氫化鈉現貨

    硼氫化鈉是一種無機物，化學式為NaBH4，白色至灰白色細結晶粉末或塊狀，吸濕性強，其堿性溶液呈棕黃色，是較常用的還原劑之一。溶于水、液氨、胺類。易溶于甲醇，微溶于乙醇、四氫呋喃。不溶于、苯、烴。在干空氣中穩(wěn)定，在濕空氣中分解，500℃加熱下也分解。通常情況下，硼氫化鈉無法還原酯，酰胺，羧酸及腈類化合物，但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外，可以將酯還原。氧化鋅作為一種優(yōu)異的半導體材料，在材料研究領域受到較多關注。采用簡單的濕化學法合成氧化鋅材料，通過X射線衍射圖觀測到合成的氧化鋅樣品純度高且沒有第二相，在NaBH4的作用下，氧化鋅的形貌以及內部結構發(fā)生了改變。帶隙能量值從eV降低到eV，并通過拉曼光譜，X射線光電子能譜進一步驗證，與純氧化鋅相比，經處理后的氧化鋅，氧空位有所增加，揭示了NaBH4對氧化鋅缺陷結構的影響。 寧夏生產銷售硼氫化鈉現貨

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