無需投加化學藥品，可連續(xù)生產(chǎn)高純度水 應用IONPURE LX 技術在生產(chǎn)高純水過程中，無需投加有害的再生化學物，不存在廢水中和問題，因此可連續(xù)生產(chǎn)，同時降低了成本。其通常用來進一步去除反滲透產(chǎn)品水中殘留的二氧化碳、鹽、硅、硼和有機碳化物（TOC）。 IONPURE LX 模塊使用離子滲透膜、離子交換樹脂以及電流來連續(xù)地生產(chǎn)高純度水，無需為裝置的再生而停機。當注入的反滲透產(chǎn)水當量電導率小于40μs/cm 時，LX系統(tǒng)的除鹽率可達到99％以上，根據(jù)不同的應用，可生產(chǎn)電阻率在10-18MΩ?cm之間的更高質量的水。 主要供貨型號：(配套電源供應) IP-LXM45Z ,IP-LXM30Z, IP-LXM24Z ,IP-LXM18Z ,IP-LXM10Z ,IP-LXM04Z 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。四川美國IONPURE EDI模塊供貨商

2．酸洗

   1）配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后，啟動清洗泵運行30分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3．消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。 廣東廠家直供美國IONPURE EDI模塊推薦廠家美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保高性價比的選擇。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準備

   1）關閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉換鈕轉到“關閉”位置。

   2）關閉下列閥門：原水進水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進出口閥。

   3）將清洗水箱和相關的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進水、濃水進水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進水和濃水進水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密，以防止化學藥品的噴濺。

美國Ionpure EDI模塊混床在運行過程中，其內(nèi)部的樹脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時候，也就意味著混床產(chǎn)水水質將下降，混床是需要用藥品再生。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質量經(jīng)得起檢驗。

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。

(6) 西門子EDI模塊，進水中CO2的影響。

     進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質，容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質下降。

(7) 西門子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。

     高的TEA將會降西門子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門子EDI模塊運行電流，而過高的運行電流會導致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對極膜壽命不利。

另外，進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對西門子EDI模塊系統(tǒng)運行有影響。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎比價。四川美國IONPURE EDI模塊供貨商

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離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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