超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應原件﹐DC電源供應器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設備之后并提供下列優(yōu)勢。 *最穩(wěn)定及符合工業(yè)級需求之比較好原件 *百分百避免漏水之運轉設計 *機簡易之配管及回路設計需求 *提供完整之電源供應原件 *可提供單一膜塊獨立電源供應 *可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設計比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設計比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫專用膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價。安徽全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊型號

美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，最終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，最終無法使用。

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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI，從“產水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

第 一步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

edi模塊的結構特點：

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

2、膜片采用進口均相膜和國產異相離子交換膜；

3、采用進口edi專用均粒樹脂和國產edi專用均粒樹脂；

4、edi模塊電極板采用鈦鍍釕技術；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國標標準件；

7、出廠最 高試壓7bar不漏水；

8、電阻低、功耗小；

9、edi模塊外觀裝飾板造型美觀結實；

10、最 大膜堆處理水量3T/H，最 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保品質保證。

清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質有保證。安徽全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊型號

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     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，最終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節(jié)，最終無法使用。

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