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江蘇TIO顯影液制造商

來源: 發(fā)布時間:2021-10-15

TIO蝕刻液的原料:①氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇,較難溶于乙醇,能升華,在蝕刻液中起腐蝕作用,一般選用工業(yè)產品。②草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產品。③硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業(yè)產品。④氫氟酸:即氟化氫的水溶液,為無色液體,能在空氣中發(fā)煙,有強烈腐蝕性和毒性,能侵蝕玻璃,需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中,可作為蝕刻玻璃的主要原料,一般選用工業(yè)品。⑤硫酸:純品為無色油狀液體,含雜質時呈黃、棕等色。用水稀釋時,應將濃硫酸慢慢注入水中,并隨時攪和,而不能將水倒入濃硫酸中,以防濃硫酸飛濺而引發(fā)事故,可作為腐蝕助劑,一般選用工業(yè)品。⑥硫酸銨:一般選用工業(yè)品。⑦甘油:一般選用工業(yè)品。⑧水:自來水。ITO顯影液用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液。江蘇TIO顯影液制造商

影響ITO蝕刻液側蝕的因素很多,下面概述幾點:1)蝕刻方式:浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕,潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小,尤以噴淋蝕刻效果較好。2)蝕刻液的種類:不同的蝕刻液化學組分不同,其蝕刻速率就不同,蝕刻系數(shù)也不同。例如:酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)可達到4。近來的研究表明,以硝酸為基礎的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側蝕,達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統(tǒng)正有待于開發(fā)。金屬發(fā)黑供應信息ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。Cl-含量的影響。溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關系,當鹽酸濃度升高時,蝕刻時間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對設備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應時,生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應的進一步進行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡合形成可溶性的絡離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來,從而提高了蝕刻速率。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:氯化鐵蝕刻液。1、Fe3+濃度的影響:Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加,對銅的蝕刻速率相應加快。當所含超過某一濃度時,由于溶液粘度增加,蝕刻速率反而有所降低。2、蝕刻液溫度的影響:蝕刻液溫度越高,蝕刻速率越快,溫度的選擇應以不損壞抗蝕層為原則,一般在40~50℃為宜。3、鹽酸添加量的影響:在蝕刻液中加入鹽酸,可以阻止FeCl3水解,并可提高蝕刻速率,尤其是當溶銅量達到37.4g/L后,鹽酸的作用更明顯。但是鹽酸的添加量要適當,酸度太高,會導致液態(tài)光致抗蝕劑涂層的破壞。4、蝕刻液的攪拌:靜止蝕刻的效率和質量都是很差的,原因是在蝕刻過程中在板面和溶液里會有沉淀生成,而使溶液呈暗綠色,這些沉淀會影響進一步的蝕刻。ITO顯影液主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀等硼酸、對苯二酚配合組成的一種特殊的用材。

銅網(wǎng)格黑化藥液按質量百分含量包括如下組分:亞硒酸0.05~5%,過硫酸鹽0~10%,穩(wěn)定劑0.01~1%,阻止劑0.01~1%,其余為水。金屬網(wǎng)格的黑化方法使用該黑化藥液對金屬網(wǎng)格進行浸泡。銅網(wǎng)格黑化藥液緩解了目前涂布黑化層的物理黑化方式繁瑣、消影效果一般,容易影響金屬導電性能的缺陷。銅網(wǎng)格黑化藥液通過亞硒酸、穩(wěn)定劑和阻止劑的相互配合不但能夠起到很好的黑化效果,明顯降低金屬的反射率和亮度,目視不明顯,達到消影效果,而且黑化后線路完整、不影響其導電性能。ITO酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。江蘇觸摸屏網(wǎng)格黑化哪里有銷售

ITO顯影液在市場上銷售的多是濃縮型液體。江蘇TIO顯影液制造商

影響ITO酸性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu+含量的影響:根據(jù)蝕刻反應機理,隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。較微量的Cu+就會明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內。2、Cu2+含量的影響:溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時,蝕刻速率較低;在2mol/L時速率較高。隨著蝕刻反應的不斷進行,蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當銅含量增加到一定濃度時,蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內。江蘇TIO顯影液制造商

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