BPO膠/PI膠/BCB膠固化烘箱要求一、技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1、潔凈度：Class100級(jí)2、氧含量（配氧分析儀）：高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量3、使用溫度：RT～400℃，最高溫度：450℃4、控溫穩(wěn)定度：±1℃；5、溫度均勻度：150℃±1.5%，350℃±2%以內(nèi)（空載測(cè)試）；6、腔體數(shù)量:2個(gè),上下布置；單獨(dú)控溫7、爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶8、空爐升溫時(shí)間：1.5h；9、空爐降溫時(shí)間：375℃--80℃；降溫時(shí)間1.5-3.5小時(shí)(采用水冷及風(fēng)冷)；10、智能控制系統(tǒng)：PCL+PC工控電腦真空泵在寒冬季節(jié)使用時(shí)，停車后，需將泵體下部放水螺塞擰開將介質(zhì)放凈。防止凍裂。金華進(jìn)口數(shù)顯真空烘箱價(jià)格

    充氮真空烘箱(N2VacuumOvens)適用范圍:適用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、五金制品、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門作無氧化干燥、固化、焊接、退火等高溫處理。產(chǎn)品特點(diǎn):1、迅速脫氧：該箱內(nèi)膽采用不銹鋼制造，箱壁接縫全部采用氬弧焊焊接，密封性能較好，能快速脫氧；2、氮?dú)夤δ埽嚎沙淙氲獨(dú)狻鍤獾榷栊詺怏w，實(shí)現(xiàn)氣氛、無氧、降溫之功能；3、高效率：穩(wěn)定和快速的升溫性能，有助于提高產(chǎn)品質(zhì)量和效率；4、保溫節(jié)能：箱體與工作室之間填充高密度纖維棉作保溫材料，有效保溫節(jié)能；5、密封性好：箱門與工作室外框設(shè)有耐高溫?zé)o塵密封條和壓緊裝置,有效地保證了箱體的密封性能；6、置物架：工作室內(nèi)設(shè)計(jì)可抽取的載物網(wǎng)板；7、美觀簡(jiǎn)潔：設(shè)備外形美觀，操作簡(jiǎn)便，控溫靈敏準(zhǔn)確；8、寬泛的溫度范圍選擇。湖州進(jìn)口數(shù)顯真空烘箱安全警報(bào)真空泵不能長(zhǎng)時(shí)期工作。

    為獲得平坦而均勻的光刻膠涂層并使光刻膠與晶片之間有良好的黏附性，通常在涂膠前對(duì)晶片進(jìn)行預(yù)處理。預(yù)處理第一步常是脫水烘烤，在真空或干燥氮?dú)獾臋C(jī)臺(tái)中，以150～200℃烘烤。工藝目的是除去晶片表面吸附的水分，在此溫度下，晶片表面大約保留了一個(gè)單分子層的水。涂膠后，晶片須經(jīng)過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時(shí)間越短或溫度越低會(huì)使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高，但對(duì)比度會(huì)有降低。實(shí)際上軟烘工藝需要通過優(yōu)化對(duì)比度而保持可接受感光度的試湊法用實(shí)驗(yàn)確定，典型的軟烘溫度是90～100℃，時(shí)間從用熱板的30秒到用烘箱的30分鐘。在晶片顯影后，為了后面的高能工藝，如離子注入和等離子體刻蝕，也須對(duì)晶片進(jìn)行高溫烘烤，稱之后烘或硬烘。這一工藝目的在于：減少駐波效應(yīng)；激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。

一般的電熱真空干燥箱都采用先加熱真空室壁面、再由壁面向工件進(jìn)行輻射加熱的方式。在這種方式下，控溫儀表的溫度傳感器可以布置在真空室外壁。傳感器可以同時(shí)接受對(duì)流、傳導(dǎo)、和輻射熱。而處于真空室里的玻璃棒溫度計(jì)只能接受輻射熱，更由于玻璃棒黑度不可能達(dá)到1，相當(dāng)一部分輻射熱被折射了，因此玻璃棒溫度計(jì)反映的溫度值就肯定低于儀表的溫度讀數(shù)。一般講，200℃工況時(shí)儀表的溫度讀數(shù)與玻璃棒溫度計(jì)的讀數(shù)兩者相差30℃以內(nèi)是正常的。如果控溫儀表的溫度傳感器布置在真空室內(nèi)，玻璃棒溫度計(jì)的溫度值與儀表的溫度讀數(shù)之間的差異可以適當(dāng)縮小，但不可能消除，而真空室的密封可靠性增加了一個(gè)可能不可靠環(huán)節(jié)。如果從操作實(shí)用角度考慮不希望看到這個(gè)差異，可以采用控溫儀表特有的顯示修正功能解決。真空烘箱，是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進(jìn)行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。

維護(hù)保養(yǎng)：13、盡量控制真空泵的流量和揚(yáng)程在標(biāo)牌上注明的范圍內(nèi)，以保證真空泵在高效率點(diǎn)運(yùn)轉(zhuǎn)，才能獲得大的節(jié)能效果。14、真空泵在運(yùn)行過程中，軸承溫度不能超過環(huán)境溫度35C，高溫度不得超過80C。15、如發(fā)現(xiàn)真空泵有異常聲音應(yīng)立即停車檢查原因。16、真空泵要停止使用時(shí)，先關(guān)閉閘閥、壓力表，然后停止電機(jī)。17、真空泵在工作一個(gè)月內(nèi)，經(jīng)100小時(shí)更換潤(rùn)滑油，以后每個(gè)500小時(shí)，換油一次。18、經(jīng)常調(diào)整填料壓蓋，保證填料室內(nèi)的滴漏情況正常（以成滴漏出為宜）。19、定期檢查軸套的磨損情況，磨損較大后應(yīng)及時(shí)更換。20、真空泵在寒冬季節(jié)使用時(shí)，停車后，需將泵體下部放水螺塞擰開將介質(zhì)放凈。防止凍裂。21、真空泵長(zhǎng)期停用，需將泵全部拆開，擦干水分，將轉(zhuǎn)動(dòng)部位及結(jié)合處涂以油脂裝好，妥善保管。工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。金華整體成型硅橡密封圈真空烘箱價(jià)格

將物料均勻放入真空干燥箱內(nèi)樣品架上，推入干燥箱內(nèi)；金華進(jìn)口數(shù)顯真空烘箱價(jià)格

在CCD（電荷耦合器件）制造過程中，顆粒沾污對(duì)CCD的薄膜質(zhì)量、光刻圖形完整性等有很大的影響，降低CCD的成品率。CCD制造過程中的顆粒來源主要有兩個(gè)方面：一個(gè)制造過程中工藝環(huán)境產(chǎn)生的顆粒；另一個(gè)是薄膜的淀積、光刻和離子注入等CCD工藝過程中產(chǎn)生的顆粒。工藝環(huán)境的顆?？蓙碓从趬w、設(shè)施、設(shè)備、材料和人員，工藝過程的顆粒來源于易產(chǎn)生粉塵的工藝，比如說LPCVD淀積多晶硅和氮化硅及刻蝕工藝等。無塵烘箱，即使在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內(nèi)部等級(jí)達(dá)到Class 100，為CCD（電荷耦合器件）制造過程中烘烤提供潔凈環(huán)境，預(yù)防顆粒沾污金華進(jìn)口數(shù)顯真空烘箱價(jià)格