HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
納米壓印設(shè)備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。連續(xù)納米壓印有哪些應(yīng)用
IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
■用于光學元件的微成型應(yīng)用
■用于全場納米壓印應(yīng)用
■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償
■粘合對準和紫外線粘合功能
紫外線壓印_紫外線固化
印章
防紫外線基材
附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記
用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。
μ-接觸印刷
軟印章
基板上的材料
領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章
中芯國際納米壓印可以試用嗎納米壓印設(shè)備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。
EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?。
EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。
EVG ® 620 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 620 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
SmartNIL
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范圍
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：
軟NIL：≤±0.5 μm
SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。熱壓印納米壓印美元報價
EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。連續(xù)納米壓印有哪些應(yīng)用
儀器儀表是用以檢出、測量、觀察、計算各種物理量、物質(zhì)成分、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備。真空檢漏儀、壓力表、測長儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來，得益于機械、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營狀況的好轉(zhuǎn)，我國儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好。目前，磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等產(chǎn)品的產(chǎn)量居世界前列，實驗分析儀器等中產(chǎn)品的市場占比不斷上升，行業(yè)技術(shù)上總體已達到的中等國際水平，少數(shù)產(chǎn)品接近或達到當前較高國際水平。在國民經(jīng)濟運行中，磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】等設(shè)備是提高勞動生產(chǎn)率的倍增器，對國民經(jīng)濟有著巨大的作用和影響力。美國商業(yè)部地區(qū)技術(shù)和標準研究院（NIST）提出的報告稱：美國90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%，但它對國民經(jīng)濟（GNP）的影響面卻達到66%。從銷售廣義角度來說，儀器儀表也可具有自動操控、報警、信號傳遞和數(shù)據(jù)處理等功能，例如用于工業(yè)生產(chǎn)過程自動操控中的氣動調(diào)節(jié)儀表，和電動調(diào)節(jié)儀表，以及集散型儀表操控系統(tǒng)也皆屬于儀器儀表。連續(xù)納米壓印有哪些應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細節(jié)，公司旗下磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計、強大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。