-
臺(tái)積電納米壓印國(guó)內(nèi)代理 創(chuàng)新服務(wù)「岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)」EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的獨(dú)立對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 氣動(dòng)壓花選項(xiàng) 軟件控制的流程執(zhí)行 EVG ? 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù) 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 最 大基板尺寸：150毫米，200毫米 最小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米 最 大接觸力：10、20、60、100 kN 最 高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 粘合卡盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...
2021-08-11 -
北京研究所納米壓印 創(chuàng)新服務(wù)「岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)」EVG公司技術(shù)開(kāi)發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說(shuō)：“我們開(kāi)發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對(duì)zui復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們今 天與AR領(lǐng)域的領(lǐng) 先者WaveOptics合作所要做的，以為zui終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開(kāi)發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場(chǎng)領(lǐng)...
2021-08-07 -
福建納米壓印廠家 歡迎來(lái)電「岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)」EVG ? 720特征： 體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 專有SmartNIL ?技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù) 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式 可選的頂部對(duì)準(zhǔn) 可選的迷你環(huán)境 適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái) 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性 系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)最 佳過(guò)程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...
-
臺(tái)積電納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用 誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)「岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)」UV納米壓印光刻系統(tǒng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) ■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) ■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 ■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 ■支持最 新的UV-LED技術(shù) ■最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 ■專有的SmartNIL?技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù) ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動(dòng)處理以及...
2021-07-19 -
晶片納米壓印質(zhì)保期多久 誠(chéng)信為本「岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)」EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的獨(dú)立對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 最 大基板尺寸：150毫米，200毫米 最小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米 最 大接觸力：10、20、60 kN 最 高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C 夾盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...
2021-07-05