在電池制造流程里，電解液的注入環(huán)節(jié)堪稱重中之重，其對溫濕度的要求近乎嚴苛。哪怕是極其細微的溫度波動，都可能引發(fā)電解液的密度與黏度發(fā)生改變。這看似不起眼的變化，卻會直接干擾注液量的控制。一旦注液量出現(xiàn)偏差，電池內(nèi)部的電化學(xué)反應(yīng)便無法在正常狀態(tài)下進行，導(dǎo)致電池容量大打折扣，使用壽命也大幅縮短。而當濕度攀升過高，空氣中游離的水分便會趁機混入電解液之中。這些水分會與電解液的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一系列有害雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會無情地腐蝕電池內(nèi)部結(jié)構(gòu)，嚴重破壞電池的穩(wěn)定性與安全性，給電池的使用埋下諸多隱患。電子顯微鏡觀測時，設(shè)備營造的穩(wěn)定環(huán)境，確保成像清晰，助力科研突破。精密加工恒溫恒濕

我司自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，控制輸出精度達 0.1%，能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴苛溫度需求。該系統(tǒng)潔凈度表現(xiàn)優(yōu)異，可達百級、十級、一級。關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)溫度穩(wěn)定性 ±5mK，內(nèi)部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發(fā)等敏感項目營造理想溫場，保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。濕度方面，8 小時內(nèi)穩(wěn)定性可達 ±0.5%；壓力穩(wěn)定性為 +/-3Pa，設(shè)備還能連續(xù)穩(wěn)定工作 144 小時，助力長時間實驗與制造。在潔凈度上，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，既確保實驗結(jié)果準確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動科研與生產(chǎn)進步。江蘇半導(dǎo)體恒溫恒濕該系統(tǒng)可實現(xiàn)潔凈度百級、十級、一級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃。

在高濕度環(huán)境中，空氣里水汽含量增大，這對光學(xué)儀器而言，無疑是巨大的威脅。儀器內(nèi)部的鏡片猶如極易受潮的精密元件，當水汽附著其上，便會在表面悄然形成一層輕薄且均勻的水膜。這層水膜宛如光線傳播的阻礙，大幅降低光線的透過率，致使成像亮度明顯減弱，對比度也隨之降低，觀測視野仿佛被蒙上一層朦朧的薄紗，原本清晰的景象變得模糊不清。倘若光學(xué)儀器長期處于這樣的高濕度環(huán)境，問題將愈發(fā)嚴重。水汽會逐漸滲透至鏡片與鏡筒的結(jié)合處，對金屬部件發(fā)起 “攻擊”，使之遭受腐蝕。隨著時間的推移，金屬部件被腐蝕得千瘡百孔，無法穩(wěn)固地固定鏡片，導(dǎo)致鏡片出現(xiàn)松動現(xiàn)象，光路精度被進一步破壞。對于那些運用鍍膜技術(shù)來提升光學(xué)性能的鏡片，高濕度同樣是一大勁敵，它會使鍍膜層受損，鏡片的抗反射能力大打折扣，進而嚴重影響成像效果，讓光學(xué)儀器難以發(fā)揮應(yīng)有的作用。

我司憑借深厚的技術(shù)積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù)，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級、一級。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環(huán)境，保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時，設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h，壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現(xiàn)百級以上潔凈度控制，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實驗結(jié)果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。針對一些局部溫度波動精度要求比較高的區(qū)域，可以采用局部氣浴的控制方式，對局部進行高精密溫控。

光刻設(shè)備對溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域，以實現(xiàn)對光刻膠的曝光，將設(shè)計好的電路圖案印制上去。當環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動，哪怕只是零點幾攝氏度的變化，光刻機內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會使得光路發(fā)生偏差。原本校準、聚焦于硅片特定坐標的光線，就可能因為光路的改變而偏離預(yù)定的曝光位置，出現(xiàn)曝光位置的漂移。提供培訓(xùn)服務(wù)，讓用戶熟練掌握設(shè)備操作與維護要點。白光干涉儀恒溫恒濕調(diào)節(jié)

精密環(huán)境控制設(shè)備內(nèi)部，關(guān)鍵區(qū)域靜態(tài)下溫度穩(wěn)定性高，可達 +/-5mK 精度。精密加工恒溫恒濕

在航天器電子元器件的制造和裝配過程中，精密環(huán)控柜的作用同樣關(guān)鍵。電子元器件對靜電、潔凈度以及溫濕度都十分敏感。靜電可能會擊穿電子元件，導(dǎo)致其損壞；而不合適的溫濕度條件會影響電子元件的性能和可靠性。精密環(huán)控柜通過配備高效的靜電消除裝置以及精確的溫濕度控制系統(tǒng)，為電子元器件的生產(chǎn)提供了一個穩(wěn)定、潔凈且無靜電干擾的環(huán)境。這不僅保證了電子元器件在制造過程中的質(zhì)量，也提高了其在航天器復(fù)雜空間環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性，為我國航空航天事業(yè)的蓬勃發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)。精密加工恒溫恒濕