氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產品中均有應用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。粒度仍然是評價氧化鋅粉末的重要指標！CPS納米粒度分析儀是您的較佳選擇！CPS納米粒度儀測得的氧化鋅粉末的粒徑分布結果，平均粒徑為0.541微米；儀器使用轉速為12,000轉/分。應用實例：病毒顆粒的粒徑分布及疫苗的研發(fā)，病毒顆粒的團聚和聚集對病毒解決的臨床安全性和療效有重要影響。馳光機電科技憑借多年的經驗，依托雄厚的科研實力。遼寧激光粒度分析儀廠家

為了提高粒徑的測量精度，需要較高的圓盤轉速，目前市面上常見的運行速度較高在15000RPM，而國內在1500RPM，無法滿足CPM化學機械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉速為24000轉，測試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測試成本，可連續(xù)測量多達40個樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經列入國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。山西高精度納米粒度分析儀哪家好馳光機電科技有限公司真誠希望與您攜手、共創(chuàng)輝煌。

UHR型可達1%，良好性能：CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準確的分析結果，即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品，CPS依然能夠提供滿意的分析結果。高分辨率：CPS具有強大的分辨率，粒徑差別在2%以內的窄峰可以被完全分辨出來。所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標定顆粒，在圖中可以清楚地看到它們完全被分辨出來呈現為五個單獨的粒度峰。高準確度：可追溯&校準到NIST標準顆粒的可靠、重復性結果。高精度：與SEM/顯微鏡分析結果的對比。

激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度，根據米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。半導體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。馳光機電在客戶和行業(yè)中樹立了良好的企業(yè)形象。

印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數據于一體，主要包括以下特性：后臺數據采集，允許測量時瀏覽數據；重量，表面積，數量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結果；可定制的分布統(tǒng)計輸出結果；完整的粒度分布統(tǒng)計。馳光提供周到的解決方案，滿足客戶不同的服務需要。海南納米粒度分析儀報價

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而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。遼寧激光粒度分析儀廠家

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