CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電生產(chǎn)的設備產(chǎn)品質量上乘。云南高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀報價

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設有激光檢測器，顆粒按尺寸大小依次通過探測器，儀器記錄顆粒通過探測器的時間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。福建納米粒度分析儀廠家馳光機電科技有限公司品質好、服務好、客戶滿意度高。

主要特點如下：1.所需樣品量少。每次只需要0.1ml，這在疫苗研發(fā)、化學合成方面具有較大的優(yōu)勢。2.一次測試可到40多個樣品。在前處理準備工作做完以后，可結合標準顆粒一批次測試40多個樣品。3.分辨率高。同激光散射和顆粒計數(shù)等方法比較，對于樣品中即使只有1%峰值差異的顆粒，依舊可以很好地區(qū)分測量出來，即可以得到真實的粒度分布結果。4.靈敏度高。低至 10-8g的樣品就可以滿足日常分析需要。5.分析時間短。和傳統(tǒng)沉降法比較，由于采用更快的圓盤轉速和高速檢測器，因此較大縮短了分析所需時間。

技術優(yōu)勢：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎是它先進的示差沉降技術。高轉速：CPS可以支持的較高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調節(jié)技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數(shù)小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。高精度標定：CPS系統(tǒng)使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。馳光機電生產(chǎn)的產(chǎn)品受到用戶的一致稱贊。

低維護配置允許安裝分析儀在常壓下將樣品返回的合適位置，進一步減少維護需求。C-Quand在線EDXRF分析儀的優(yōu)勢：1.帶有十五個測量通道，可以同時分析15種元素的含量。2.沒有運動部件，不需要更換動力窗模塊。3.運行維護成本低，無后期耗材成本。4.維護操作簡單，帶有全自動樣品池清洗模塊，每次維護時間多數(shù)十分鐘，宕機時間短。5.內置標準樣品，不需要停機校準，實現(xiàn)真正的完全在線測量。6.測量結果不受樣品密度和原料種類影響，直接測量元素含量。山東馳光機電科技有限公司擁有先進的產(chǎn)品生產(chǎn)設備，雄厚的技術力量。云南高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀廠家

馳光機電科技嚴格控制原材料的選取與生產(chǎn)工藝的每個環(huán)節(jié)，保證產(chǎn)品質量不出問題。云南高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀報價

對于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過可選的速度調節(jié)功能圓盤，只需常規(guī)圓盤分析時間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對裂解后炭黑進行粒徑測試后的結果所示：與掃描電鏡所顯示的結果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設備和材料領域歷來是受歡迎的。云南高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀報價

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