激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對(duì)含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。我公司生產(chǎn)的產(chǎn)品、設(shè)備用途非常多。重慶納米粒度分析儀

對(duì)于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤，只需常規(guī)圓盤分析時(shí)間的1/20。經(jīng)過CPS納米粒度儀對(duì)裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測(cè)試后的結(jié)果所示：與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實(shí)反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是受歡迎的。四川納米粒度分析儀價(jià)格馳光機(jī)電科技設(shè)備的引進(jìn)更加豐富了公司的設(shè)備品種，為用戶提供了更多的選擇空間。

CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進(jìn)行粒度的測(cè)量。待測(cè)樣品從圓盤中心進(jìn)入高速旋轉(zhuǎn)的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設(shè)有激光檢測(cè)器，顆粒按尺寸大小依次通過探測(cè)器，儀器記錄顆粒通過探測(cè)器的時(shí)間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運(yùn)動(dòng)所需的時(shí)間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度。

為了提高粒徑的測(cè)量精度，需要較高的圓盤轉(zhuǎn)速，目前市面上常見的運(yùn)行速度較高在15000RPM，而國(guó)內(nèi)在1500RPM，無法滿足CPM化學(xué)機(jī)械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉(zhuǎn)速為24000轉(zhuǎn)，測(cè)試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測(cè)試成本，可連續(xù)測(cè)量多達(dá)40個(gè)樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經(jīng)列入國(guó)標(biāo)，包括《金屬粉末粒度分布的測(cè)量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測(cè)定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測(cè)定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。馳光機(jī)電是多層次的團(tuán)體與管理模式。

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法SOP，并且可以對(duì)SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測(cè)量池。更換測(cè)量池簡(jiǎn)便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測(cè)量池模塊都是配合不同的分析方法而開發(fā)的，確保能夠根據(jù)樣品的特性來測(cè)量。纖維測(cè)量池：ACM-104L，氣溶膠測(cè)量池ACM-106，微流量測(cè)量池ACM-108，載玻片測(cè)量池ACM-110，加熱測(cè)量池ACM-111，自由落體測(cè)量池ACM-112。在每一次分析過程中，激光光束與顆粒之間發(fā)生了上百萬次的交互作用。馳光機(jī)電科技以發(fā)展求壯大，就一定會(huì)贏得更好的明天。吉林病毒顆粒分析儀哪家好

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為了實(shí)現(xiàn)較佳過程控制，樣品測(cè)量時(shí)間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡(jiǎn)單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續(xù)測(cè)量多達(dá)四個(gè)流路，每個(gè)流都有自己的校準(zhǔn)曲線。此外，C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確?？煽康臄?shù)據(jù)。每小時(shí)分析一次內(nèi)置的固體參考。有了這個(gè)內(nèi)置的自動(dòng)參考，您將能夠在一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)無漂移過程測(cè)量。重慶納米粒度分析儀