激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度，根據米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。半導體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。我們完善的售后服務，讓客戶買的放心，用的安心。遼寧病毒顆粒分析儀價格

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產生。安徽粒度分析儀廠家山東馳光機電科技有限公司為客戶服務，要做到更好。

水泥的粒度分布如何將較大的影響混凝土的強度。粒度分布的測量對產品的質量控制，降低生產成本，提高產品質量，減少能耗方面均有較大的作用。對于水泥生產的實時控制，就需要粒度儀這樣的監(jiān)控儀器，保證數據的輸出連續(xù)性，確保質量的可靠。納米粒度儀采用動態(tài)光散射原理和光子相關光譜技術，根據顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快，大顆粒布朗運動速度慢，激光照射這些顆粒，不同大小的顆粒將使散射光發(fā)生快慢不同的漲落起伏。

EyeTec濃度測量：除了顆粒大小，激光和顆粒交互產生的信號可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號。因為旋轉的激光的檢測范圍是一定的，所以顆粒濃度可以計算出來。了解顆粒數據庫系統(tǒng)：可通過鼠標點擊調出每個已檢測顆粒的詳細數據信息，包括圖像、圖形和參數；顆粒數量無限制；顆粒信息易于輸出至Excel進行進一步處理；提供顆粒信息數據庫，數據挖掘便于分析對比和統(tǒng)計。動態(tài)粒形分析的形狀和粒徑相關數據可提供關于單個顆粒豐富的信息。馳光機電熱忱歡迎新老客戶惠顧。

使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖，表明儀器的重復性較好，樣品的粒徑為0.586微米。分析氧化鋁粉末時，為防止樣品發(fā)生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化鋅ZnO粉末：氧化鋅俗稱鋅白，是鋅的一種氧化物。氧化鋅是一種常用的化學添加劑，大量地應用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產品中均有應用。馳光機電始終以適應和促進工業(yè)發(fā)展為宗旨。山東病毒顆粒分析儀價格

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應用實例：測量高純氧化鋁粉。一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產品的重要指標，CPS納米粒度分析儀能給您帶來確切穩(wěn)定的測量結果。使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。遼寧病毒顆粒分析儀價格