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全自動濕法設備供應商

來源: 發(fā)布時間:2024-02-04

專業(yè)濕法設備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,增加硅片對太陽光的吸收,降低反射率l增加硅片表面積,進而PN結面積也相應增加。設備優(yōu)勢是進口PLC控制,兼容MES,UPS和RFID功能。機械手分配合理,有效避免藥液交叉污染和槽體反應超時。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻,槽內(nèi)控溫精度誤差<±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進口材質,避免材料雜質析出;引進半導體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結構,有效提升脫水能力,匹配高效電池發(fā)展趨勢。采用低溫烘干技術,保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法背拋清洗設備(Topcon工藝)慢提拉采用機械臂慢提方式,設備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢。全自動濕法設備供應商

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太陽能光伏濕法設備包括濕法制絨設備(Perc 工藝)、制絨設備(Topcon工藝)、濕法刻蝕設備(Perc 工藝)、RCA槽式清洗設備(Topcon工藝)、電池濕法背拋清洗設備(Topcon工藝)、濕法制絨設備(HJT工藝)、電池濕法背拋清洗設備(XBC工藝)、制絨清洗設備(XBC工藝)等;釜川生產(chǎn)制造的濕法設備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設備結構、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理,從而提升電池的質量和效率。

電池濕法設備Perc工藝,濕濕法刻蝕設備功能是去除背面PSG和拋光處理。設備優(yōu)勢l閉環(huán)運動控制系統(tǒng),保證輸送機構運動平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式,完整的保護正面的同時,對背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風機+高效過濾器的方式,堿拋設備:鏈式去PSG+槽式堿拋設備,設備產(chǎn)能大,穩(wěn)定性好。l進口PLC控制,穩(wěn)步提升設備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機械臂慢提方式,設備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設備,提高設備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻,槽內(nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法設備在生產(chǎn)過程中采用先進的控制系統(tǒng),實現(xiàn)生產(chǎn)線的自動化和智能化控制,提高產(chǎn)品質量和穩(wěn)定性。

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電池濕法制絨清洗設備(XBC工藝)可配套無金屬化制程設備,提高設備潔凈度。全自動濕法設備供應商

電池濕法設備Perc工藝,濕法制絨設備功能是去除切割損傷層和表面臟污2.使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面,增加硅片對太陽光的吸收,降低反射率3.增加硅片表面積,進而PN結面積也響應增加。設備優(yōu)勢?采用機械臂慢提方式,設備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻,槽內(nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法設備能改善電池表面微觀結構,提升硅片表面潔凈度,降低表面污染,從而提升電池轉化效率。全自動濕法設備供應商

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