光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。 河北掩膜版歡迎來電

掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下***業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。通俗點理解，掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的“底片”。 掩膜版主要用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn)，是下***業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。 公司根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。質(zhì)量掩膜版哪家好

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還***的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌龋头瓷渎?，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分***，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等. 光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

光刻掩膜版的工藝過程： 1） 繪制生成設(shè)備可以識別的掩膜版版圖文件（GDS格式） 2） 使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學反應(yīng) 3） 經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層 4） 使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。 5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進行清洗。 其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶自行設(shè)計并提交，后續(xù)加工工藝由工程師完成。由于圖形數(shù)據(jù)準備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對所提交的版圖文件仔細核對，確保圖形正確性。河北掩膜版質(zhì)量商家

河北掩膜版歡迎來電

掩膜版的種類 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作方法 濺鍍法（Sputtering）： （1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材； 下平行板：作為濺鍍對象的玻璃基板。 （2）將氬氣（Ar 2 ）通入反應(yīng)艙中形成等離子體； 氬離子（Ar + ）在電場中被加速后沖撞靶材； 受沖擊的靶材原子會沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。河北掩膜版歡迎來電

蘇州原位芯片科技有限責任公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠、勵精圖治、展望未來、有夢想有目標，有組織有體系的公司，堅持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明，攜手共畫藍圖，在江蘇省蘇州市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來公司能成為*****，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強不息，斗志昂揚的的企業(yè)精神將**蘇州原位芯片科技和您一起攜手步入輝煌，共創(chuàng)佳績，一直以來，公司貫徹執(zhí)行科學管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠實守信的方針，員工精誠努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來贏得市場，我們一直在路上！