光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分***，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等. 光刻掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。上海優(yōu)良掩膜版品質(zhì)售后無(wú)憂

光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車(chē)載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專(zhuān)業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。 云南口碑好掩膜版哪家快

光刻掩膜版的工藝過(guò)程： 1） 繪制生成設(shè)備可以識(shí)別的掩膜版版圖文件（GDS格式） 2） 使用無(wú)掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長(zhǎng)405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng) 3） 經(jīng)過(guò)顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層 4） 使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。 5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。 其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶自行設(shè)計(jì)并提交，后續(xù)加工工藝由工程師完成。由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。

掩膜版的種類(lèi) 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹(shù)脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作方法 濺鍍法（Sputtering）： （1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材； 下平行板：作為濺鍍對(duì)象的玻璃基板。 （2）將氬氣（Ar 2 ）通入反應(yīng)艙中形成等離子體； 氬離子（Ar + ）在電場(chǎng)中被加速后沖撞靶材； 受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。

光掩膜概述： 光掩膜一般也稱(chēng)光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。 作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過(guò)程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。 光掩膜的應(yīng)用領(lǐng)域： 光掩膜主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領(lǐng)域，應(yīng)用較為***。 湖南**掩膜版來(lái)電咨詢(xún)

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光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還***的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見(jiàn)的光掩膜的種類(lèi)有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌?，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過(guò)干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。上海優(yōu)良掩膜版品質(zhì)售后無(wú)憂

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