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廣東BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-29

某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s,轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運(yùn)動(dòng)軌跡,該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個(gè)紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn),操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(jì)(質(zhì)量 < 1μg)還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級手術(shù),相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新:與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,提升制造精度。廣東BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米

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Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加,簡化射頻器件(如IDC電容器)制造流程。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性(0.1 μm)確??蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性,助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。廣東BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米未來技術(shù)儲備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。

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大尺寸晶圓的高效處理:Polos-BESM XL的優(yōu)勢!Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm,平臺重復(fù)性精度0.1 μm,滿足工業(yè)級需求。搭配20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭,實(shí)時(shí)觀測與多層對準(zhǔn)功能使其成為光子晶體和柔性電子器件研究的理想工具。其BEAM Xplorer軟件簡化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì),內(nèi)置高性能筆記本實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。

某生物力學(xué)實(shí)驗(yàn)室通過 Polos 光刻機(jī),在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細(xì)胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達(dá) 5pN,位移檢測精度達(dá) 1nm。在心肌細(xì)胞收縮力檢測中,該集成傳感器實(shí)現(xiàn)了力 - 電信號的同步采集,發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達(dá) 0.92,為心臟電機(jī)械耦合機(jī)制研究提供了全新工具,相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。德國 SPS Polos:深耕微納加工 35 年,專注半導(dǎo)體與生命科學(xué)領(lǐng)域,全球布局 6 大技術(shù)中心,服務(wù) 500 + 科研機(jī)構(gòu)。

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在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時(shí),某生物工程團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備。其無掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,血管內(nèi)皮細(xì)胞貼壁率達(dá) 95%,較傳統(tǒng)光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實(shí)肝臟血管數(shù)據(jù),芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,使肝細(xì)胞功能維持時(shí)間從 7 天延長至 21 天。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型,某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面??焖僮詣?dòng)對焦:閉環(huán)對焦系統(tǒng)1秒完成,多層半自動(dòng)對準(zhǔn)提升實(shí)驗(yàn)效率。四川桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

固態(tài)電池:鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2,電池循環(huán)壽命提升 3 倍。廣東BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米

Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學(xué)廢料產(chǎn)生,同時(shí)低能耗設(shè)計(jì)(如固態(tài)激光光源)符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。例如,其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機(jī)能耗降低30%,助力科研機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)碳中和目標(biāo)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。廣東BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米

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