某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,在鋁合金表面制備出仿荷葉結構的超疏水涂層。其激光直寫技術在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,使材料表面接觸角達 165°,滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,被用于微流控芯片的液滴定向輸運,液滴驅動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。6英寸晶圓兼容:Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,工業(yè)級重復精度0.1 μm。河南德國POLOS光刻機光源波長405微米
針對植入式醫(yī)療設備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產品提升 50%,相關技術已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。黑龍江PSP光刻機分辨率1.5微米材料科學:超疏水表面納米圖案化,接觸角 165°,防腐蝕性能增強 10 倍。
細胞培養(yǎng)芯片需根據不同細胞類型設計表面微結構,傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,難以滿足個性化需求。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導入,某干細胞研究所在 24 小時內完成了神經干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,適配不同分化階段的細胞黏附需求。實驗顯示,使用該支架的神經細胞軸突生長速度提升 30%,為神經再生機制研究提供了高效工具,相關技術已授權給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數(shù)據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發(fā)。實時觀測系統(tǒng):120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,實現(xiàn)加工過程動態(tài)監(jiān)控。
一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性,讓研究人員能夠根據傳感器的特殊需求,設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻,成功制造出的壓力傳感器,靈敏度比現(xiàn)有市場產品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,并吸引了多家科技企業(yè)的關注,有望實現(xiàn)產業(yè)化應用,為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。湖北PSP光刻機光源波長405微米
電子學應用:2μm 線寬光刻能力,第三代半導體器件研發(fā)效率提升 3 倍。河南德國POLOS光刻機光源波長405微米
針對碳化硅(SiC)功率模塊的柵極刻蝕難題,Polos 光刻機的激光直寫技術實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設備,將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,開關損耗減少 20%,推動車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結構,使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,助力我國在第三代半導體領域實現(xiàn)彎道超車。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南德國POLOS光刻機光源波長405微米