Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。微納光學(xué)器件制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇德國Nanoscribe

拉曼光譜是針對于有機(jī)組織和生物組織的一種強(qiáng)大的分析技術(shù)，可以根據(jù)樣品的個(gè)別光譜指紋對其進(jìn)行定性，如細(xì)菌。拉曼散射的固有弱點(diǎn)可以通過金屬化的微納結(jié)構(gòu)表面得到加強(qiáng)，從而創(chuàng)造出與樣品相互作用的信號熱點(diǎn)。在他們的研究中，科學(xué)家們使用雙光子聚合技術(shù)（2PP）在光纖的表面3D打印了這些微納結(jié)構(gòu)，然后添加上一層薄薄的鍍金涂層。在SERS測量中，激光被耦合到光纖中并激發(fā)光纖探針的微納結(jié)構(gòu)表面的信號熱點(diǎn)。在與分析物的相互作用中，SERS信號就可產(chǎn)生并被光纖傳感器收集。重慶進(jìn)口Nanoscribe微納加工系統(tǒng)快速原型制作，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

為了探索待測物微納米表面形貌，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進(jìn)展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實(shí)現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。

雙光子聚合（2PP）是一種可實(shí)現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打印；其次制作高達(dá) 50 毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。Quantum X  shape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率更多有關(guān)增材制造的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造通過使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng)，科學(xué)家們實(shí)現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu)。海南德國Nanoscribe微納光刻

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高。江蘇德國Nanoscribe