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浙江超高速灰度光刻技術3D打印

來源: 發(fā)布時間:2023-10-16

   Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作。浙江超高速灰度光刻技術3D打印

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Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。浙江超高速灰度光刻技術3D打印如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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  雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不光是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,對于雙光子聚合的微結構,我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作,并通過納米壓印技術進行復制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。如果了解雙光子灰度光刻技術,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術的區(qū)別。浙江超高速灰度光刻技術3D打印

雙光子灰度光刻技術多強大,如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江超高速灰度光刻技術3D打印

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印 。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。浙江超高速灰度光刻技術3D打印

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