Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高增材制造技術可以提供定制化的產(chǎn)品設計。天津微光學增材制造

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司。 Nanoscribe公司 的 2PP 技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產(chǎn)品線開發(fā)，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。 CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與 Nanoscribe 公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯(lián)手的協(xié)作效應，可以實現(xiàn)更逼真的組織結構，例如血管化和細胞支持體等。 2PP 技術將實現(xiàn)CELLINK集團所有三個業(yè)務的跨領域應用，并增強集團的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應。 “借助 Nanoscribe 先進的 2PP 技術，我們可以實現(xiàn)擴大補充我們的產(chǎn)品組合，為我們的客戶提供更廣的產(chǎn)品?！鄙虾Ｎ⒘鞯涝霾闹圃霵PGT2增材制造輪的優(yōu)勢在于其高度定制化和節(jié)能環(huán)保的特點。

增材制造技術能夠簡化光學器件的制造流程，縮短交貨期并降低材料消耗。更重要的是，增材制造技術能夠?qū)崿F(xiàn)功能集成的優(yōu)化設計方案，尤其在衛(wèi)星光學系統(tǒng)制造領域，增材制造技術能夠滿足用戶對輕型光學系統(tǒng)不斷增長的需求，并實現(xiàn)下一代高附加值光學器件的制造。通過增材制造技術開發(fā)的下一代光學儀器中，將越來越多采用緊湊的功能集成設計，如集成隔熱，冷卻通道，局限的機械和熱接口，以及將光學功能作為設備自身結構的一部分。緊湊集成化設計減少了組件裝配過程中出現(xiàn)問題的風險，同時開辟了制造冷卻光學系統(tǒng)，有源光學系統(tǒng)或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技術的凈成形能力，還能夠提高準確性，改善集成/結合過程的質(zhì)量。在成就高附加值零件方面，3D打印的應用還包括很多，除了打印極度復雜的結構、打印混合材料，3D打印因為技術種類繁多也帶來了高附加值零件的創(chuàng)新空間，例如3D打印感應器、3D打印多層電路、3D打印電池等等

為了制作由3D工程細胞微環(huán)境制成的體外細胞培養(yǎng)物，科學家們利用雙光子聚合技術（2PP）來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架，該仿生幾何結構影響膠質(zhì)母細胞瘤細胞及其定植機制。在該實驗中，細胞可以在定制3D支架幾何結構的引導下以受控方式生長。只有在強聚焦的激光焦點處才能發(fā)生雙光子吸收的光聚合反應可實現(xiàn)在亞微米范圍內(nèi)打印**精細的3D特征結構。此外，這種增材制造技術可在微米級別實現(xiàn)高度三維設計自由度，并以比較高精度模擬三維細胞微環(huán)境。激光增材制造可以實現(xiàn)材料的精細控制和定制化生產(chǎn)。

Nanoscribe基于雙光子聚合技術的3D打印技術為構建具有自由形狀和復雜特征的零件提供了極大的自由度，可直接根據(jù)CAD模型制造成品。若以傳統(tǒng)方式來制造這些設計復雜的零件，則顯得非常不切實際，甚至根本不可能完成。增材制造技術制造的零件往往更輕、更高效且能夠更好地發(fā)揮工作性能。然而，這并不是說這種靈活性能夠讓我們隨心所欲地設計任何想要的形狀，至少在成本的約束下，我們也不可能做到這一點。Nanoscribe所具備的納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度比較高增材制造技術可用于生產(chǎn)復雜結構，傳統(tǒng)制造無法達到。天津微光學增材制造

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   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?！癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現(xiàn)在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規(guī)模比較大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。天津微光學增材制造