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上海科研增材制造QX

來源: 發(fā)布時間:2023-12-25

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組(B-PHOT)的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(2PP)將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您簡述增材制造技術的應用。上??蒲性霾闹圃霶X

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談到增材制造技術(俗稱3D打印技術)估計很多人并不陌生,但是說到增材制造技術的應用,可能大部分人還只停在以下兩個階段:1)原型制造,即通過樹脂、塑料等非金屬材料打印的概念原型與功能原型。其中概念原型用于展示產(chǎn)品設計的整體概念、立體形態(tài)和布局安排,功能原型則用于優(yōu)化產(chǎn)品的設計,促進新產(chǎn)品的開發(fā),如檢查產(chǎn)品的結(jié)構設計,模擬裝配、裝配干涉檢驗等。2)間接制造,即通過3D打印技術完成工、模具制造,再采用3D打印工模具進行零件的制造。海南Nanoscribe增材制造微納加工系統(tǒng)增材制造為創(chuàng)新設計提供了更多可能性。

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  QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機型,該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義

隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。增材制造技術可用于生產(chǎn)復雜結(jié)構,傳統(tǒng)制造無法達到。

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   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?!癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院,現(xiàn)在在上海設有子公司,在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久,規(guī)模比較大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。增材制造輪的生產(chǎn)流程也具有很高的靈活性。上海增材制造仿真

金屬3D打印技術具有廣闊的應用前景。上??蒲性霾闹圃霶X

人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結(jié)構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。上??蒲性霾闹圃霶X

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