世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。歡迎咨詢。無掩膜光刻技術(shù)也適用于制造精細的電子元件和結(jié)構(gòu)。浙江無掩膜光刻工藝

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作遼寧德國無掩膜光刻德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術(shù)你想了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設(shè)計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質(zhì)量表面和形狀精度。而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)設(shè)計自由度高，輕松實現(xiàn)收集光束傳輸?shù)讲▽е小?/p>

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作。靈活性高：由于無需制作實體掩膜版，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案，方便進行試制和修改。湖北Nanoscribe無掩膜光刻無掩膜激光直寫

無掩膜光刻技術(shù)是一種先進的微納加工技術(shù)。浙江無掩膜光刻工藝

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。浙江無掩膜光刻工藝