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德國高分辨率灰度光刻3D打印

來源: 發(fā)布時間:2024-07-27

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造?;叶裙饪碳夹g可以實現高分辨率的微納米結構制造。德國高分辨率灰度光刻3D打印

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來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計??茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟灰度光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫(yī)學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險。德國高分辨率灰度光刻3D打印雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。

Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。靈活性高:由于無需制作實體掩膜版,無掩膜光刻技術可以快速地更改光刻圖案,方便進行試制和修改。

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國際上,激光直寫設備是光掩模制備的主要工具,尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形,面積可達110英寸(瑞典MICRONIC)單價高于1.5億元/套,制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB;然而,這種激光直寫設備并不適用于微納3D形貌結構和深紋圖形制備。已有的基于藍光405nm直接成像光刻(DIL)適合光刻分辨率較低的圖形,也不適用于3D結構的灰度光刻。因此,面向柔性光電子材料與器件的需求,必須攻克大面積3D形貌的微結構的高效高精度制備,解決海量數據高效率轉化、高精度數據迭代與疊加曝光,高速率飛行直寫技術的難題。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。廣東灰度光刻技術3D打印

灰度光刻技術具有很高的靈活性,可以通過控制光的幅度和相位。德國高分辨率灰度光刻3D打印

NanoscribeQuantumX平臺系統的超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。已滿足高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。德國高分辨率灰度光刻3D打印

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