Nanoscribe稱，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。 高度定制化產品，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。德國超高速Nanoscribe工藝

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造，一直致力于開發(fā)和生產3D 微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。

江蘇雙光子Nanoscribe無掩膜激光直寫更多有關3D打印的技術和產品咨詢 ，歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司。

多年來，Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術、微光學等工業(yè)微加工相關項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業(yè)帶領機構一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術創(chuàng)新，并可以應用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統，這就需要復雜的研發(fā)工作，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司，是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中，有科學研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現已發(fā)表在1300多份同行評議期刊上。納糯三維科技（上海）有限公司作為德國Nanoscribe在中國的獨有的子公司加強了在中國的銷售活動。

Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。該系統還具有用戶友好的3D打印工作流程，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。 增材制造技術存在多方面的優(yōu)勢，如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。北京微納Nanoscribe三維光刻

Nanoscribe的2PP技術可用于構造包含不同規(guī)模結構的聚合物母版。德國超高速Nanoscribe工藝

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數據通訊，激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。

德國超高速Nanoscribe工藝