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內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

來源: 發(fā)布時間:2025-02-10

雙光子聚合是物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質(zhì)的一個分子同時吸收兩個光子的過程,只能在強激光作用下發(fā)生,是一種強激光下光與物質(zhì)相互作用的現(xiàn)象,屬于三階非線性效應(yīng)的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強激光的焦點處,光路上其他地方的激光強度不足以產(chǎn)生雙光子吸收,而由于所用光波長較長,能量較低,相應(yīng)的單光子過程不能發(fā)生,因此,雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點,在三維微加工、高密度光儲存及生物醫(yī)療領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景,近年來已成為全球高新技術(shù)領(lǐng)域的一大研究熱點。該無掩膜光刻系統(tǒng)適用于2D和2.5D拓撲結(jié)構(gòu)快速制造,例如微光學(xué)衍射以及折射元件等.內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

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QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。歡迎咨詢。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻雙光子聚合技術(shù)是近年發(fā)展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯(lián)的一種新型的光聚合技術(shù)。

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隨著科技的不斷進步,雙光子聚合激光直寫技術(shù)正以驚人的速度改變著我們的生活。這項創(chuàng)新技術(shù)利用雙光子效應(yīng),通過高能量激光束直接寫入材料表面,實現(xiàn)了高精度、高效率的微納加工。它不僅在微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力,還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚合激光直寫技術(shù)的突破在于其能夠?qū)崿F(xiàn)超高分辨率的微納加工。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)受限于光的波長,無法達到納米級別的加工精度。而雙光子聚合激光直寫技術(shù)則能夠利用兩個光子的能量共同作用,將加工精度提升到亞微米甚至納米級別。這使得我們能夠制造出更小、更精細的微型器件,為微電子行業(yè)帶來了巨大的發(fā)展機遇。除了在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,雙光子聚合激光直寫技術(shù)還在光電子領(lǐng)域展現(xiàn)出了巨大的潛力。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置,我們可以在光學(xué)材料中實現(xiàn)三維結(jié)構(gòu)的直接寫入。這為光學(xué)器件的制造提供了全新的思路,不僅能夠提高器件的性能,還能夠降低成本。這對于光通信、光存儲等領(lǐng)域的發(fā)展具有重要意義。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性


雙光子聚合可以通過控制激光的光強和聚焦位置來實現(xiàn)加工的精度和形狀,表現(xiàn)出很強的可控性。

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事實上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達到了120nm,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

科學(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

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