Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的更多無掩模光刻系統(tǒng)的信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江高精度無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長、遷移和干細(xì)胞分化。此外,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。浙江微納米無掩膜光刻3D微納加工無掩膜光刻技術(shù)可降低微納制造的成本。
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。。想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。
QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中,它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上。浙江微納米無掩膜光刻3D微納加工
無掩膜光刻機(jī)具有無掩模光刻技術(shù)的便利,很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率。浙江高精度無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
事實(shí)上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達(dá)到了120nm,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中。該微型混合器可以處理高達(dá)100微升/分鐘的高流速樣品,適用于藥物和納米顆粒制造,快速化學(xué)反應(yīng)、生物學(xué)測量和分析藥物等各種不同應(yīng)用。浙江高精度無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)