由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。超高分辨率微觀微納3D打印技術(shù)讓電子產(chǎn)品越來越小。江蘇工業(yè)微納3D打印公司

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。杭州芯片上微納3D打印激光直寫想要了解更多雙光子微納3D打印技術(shù)信息，敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

微納3D打印技術(shù)具有多方面的明顯優(yōu)勢，使其在多個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用。以下是一些主要的優(yōu)勢：高精度和復(fù)雜性：微納3D打印系統(tǒng)可以在微米和納米尺度上實(shí)現(xiàn)高精度的打印，從而制造出具有復(fù)雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件。這使得它在生物醫(yī)學(xué)、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有很廣的應(yīng)用前景。定制化設(shè)計(jì)：該技術(shù)可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制設(shè)計(jì)，從而實(shí)現(xiàn)個(gè)性化和定制化生產(chǎn)。這為設(shè)計(jì)師提供了更大的設(shè)計(jì)自由度，使得他們可以更容易地實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計(jì)。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比，微納3D打印系統(tǒng)的材料利用率更高。因?yàn)樵诖蛴∵^程中，只有需要的材料才會(huì)被使用，而不需要的材料則會(huì)被避免浪費(fèi)。這有助于降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。可用材料種類多：微納3D打印可用的材料種類豐富，包括有機(jī)聚合物、生物材料、金屬、陶瓷、玻璃、復(fù)合材料等，這使得它在不同領(lǐng)域的應(yīng)用更加靈活。方便快捷、效率高：微納3D打印技術(shù)具有方便快捷、效率高的特點(diǎn)，能夠快速制造出所需的產(chǎn)品或部件，滿足快速響應(yīng)市場需求的要求。綜上所述，微納3D打印技術(shù)因其高精度、定制化設(shè)計(jì)、高材料利用率、多樣的可用材料以及高效快捷的特點(diǎn)，在多個(gè)領(lǐng)域具有明顯的優(yōu)勢和廣闊的應(yīng)用前景。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。了解更多雙光子微納3D打印技術(shù)和產(chǎn)品信息，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe供應(yīng)高精度微納3D打印系統(tǒng)系列產(chǎn)品。徐州芯片上微納3D打印公司

無機(jī)打印材料實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)質(zhì)量表面的玻璃微納結(jié)構(gòu)的3D打印制作。江蘇工業(yè)微納3D打印公司

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對(duì)準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個(gè)打印過程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。江蘇工業(yè)微納3D打印公司