Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海德國灰度光刻3D打印

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術，對智能手機、手持設備和醫(yī)療技術領域至關重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經(jīng)為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學，甚至利用他們的技術來開發(fā)創(chuàng)新的設備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。重慶雙光子灰度光刻技術3D打印雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。

經(jīng)過10年的市場銷售，Nanoscribe已幫助了許多科學和工業(yè)領域的開拓者和創(chuàng)新的帶領者，例如，為ICT生產(chǎn)DOE，微光學以及光子引線鍵合。他們的新IP-Visio在30個國家/地區(qū)擁有1,000多個用戶，受到業(yè)界的強烈關注。2019年6月該公司推出了一款新型的機器QuantumX，使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！?。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mm?；叶裙饪碳夹g的精度受到灰度值的影響。上海高精度灰度光刻三維光刻

灰度光刻技術是一種非接觸、高精度的光刻技術，具有較高的靈活性和自由度。上海德國灰度光刻3D打印

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。上海德國灰度光刻3D打印