QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制想要了解更多雙光子聚合納米3D打印的信息，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。亞微米雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高。江蘇高精度雙光子聚合技術(shù)雙光子聚合的特點(diǎn)和用途你了解嗎？如需了解請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。

雙光子聚合3D打印技術(shù)的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個(gè)問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術(shù)發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術(shù)比傳統(tǒng)技術(shù)更快，但仍然需要進(jìn)一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術(shù)有望在未來取得更大的突破。科研人員正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質(zhì)量和效率。同時(shí)，企業(yè)也加大了對(duì)該技術(shù)的支持和投入，推動(dòng)其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。雙光子聚合3D打印技術(shù)是一項(xiàng)具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動(dòng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術(shù)將成為制造業(yè)的主流技術(shù)，為我們帶來更加美好的未來。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘什么是雙光子聚合技術(shù)。

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù)，雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時(shí)確保高精度制作。結(jié)合極高設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn)，2PP高精度增材制造推動(dòng)著未來技術(shù)在例如生命科學(xué)、微流體、材料工程、微機(jī)械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場(chǎng)人物，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限。基于突破性雙光子對(duì)準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺(tái)系列，可以實(shí)現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件，助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)和定位。此外，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇，雙光子聚合激光直寫技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)別的加工精度，比傳統(tǒng)的納米加工技術(shù)更加精細(xì)。江蘇高精度雙光子聚合技術(shù)

三維加工能力：這種技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)三維加工，能夠制造出具有復(fù)雜形狀的納米結(jié)構(gòu)。亞微米雙光子聚合無掩光刻

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹單⒚纂p光子聚合無掩光刻