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北京碳化硅襯底進口

來源: 發(fā)布時間:2022-08-21

相同規(guī)格的碳化硅基MOSFET與硅基MOSFET相比,其尺寸可大幅減小至原來的1/10,導(dǎo)通電阻可至少降低至原來的1/100。相同規(guī)格的碳化硅基MOSFET較硅基IGBT的總能量損耗可降低70%。碳化硅功率器件具有高電壓、大電流、高溫、高頻率、低損耗等獨特優(yōu)勢,將極大提高現(xiàn)有使用硅基功率器件的能源轉(zhuǎn)換效率,未來將主要應(yīng)用領(lǐng)域有電動汽車/充電樁、光伏新能源、軌道交通、智能電網(wǎng)等。市場空間:據(jù) Yole 統(tǒng)計,2020 年 SiC 碳化硅功率器件市場規(guī)模約 7.1 億美元,預(yù)計 2026 年將增長至 45 億美元,2020-2026 年 CAGR 近 36%。其中,新能源汽車是 SiC 功率器件下游重要的應(yīng)用市場,預(yù)計需求于 2023 年開始快速爆發(fā)。SiC在很寬的光譜范圍(2.2~3.2eV)內(nèi)也有良好的發(fā)光特性。北京碳化硅襯底進口

半導(dǎo)體材料是碳化硅相當有前景的應(yīng)用領(lǐng)域之一,碳化硅是目前發(fā)展成熟的第三代半導(dǎo)體材料。隨著生產(chǎn)成本的降低,SiC半導(dǎo)體正在逐步取代一、二代半導(dǎo)體。碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈主要包括碳化硅高純粉料、單晶襯底、外延片、功率器件、模塊封裝和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。在第三代半導(dǎo)體應(yīng)用中,碳化硅半導(dǎo)體的優(yōu)勢在于可與氮化鎵半導(dǎo)體互補,氮化鎵半導(dǎo)體材料的市場應(yīng)用領(lǐng)域集中在1000V以下,偏向中低電壓范圍,目前商業(yè)碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)品電壓等級為600~1700V。由于SiC器件高轉(zhuǎn)換效率、低發(fā)熱特性和輕量化等優(yōu)勢,下業(yè)需求持續(xù)增加,有取代SiO2器件的趨勢。江蘇n型碳化硅襯底碳化硅可在超過200℃的高溫下長期穩(wěn)定地工作。

新能源汽車是碳化硅功率器件市場的主要增長驅(qū)動。SiC功率器件主要應(yīng)用于新能源車逆變器、DC/DC轉(zhuǎn)換器、電機驅(qū)動器和車載充電器(OBC)等電控領(lǐng)域,以完成較Si更高效的電能轉(zhuǎn)換。預(yù)計隨著新能源車需求快速爆發(fā),以及SiC襯底工藝成熟、帶來產(chǎn)業(yè)鏈降本增效,產(chǎn)業(yè)化進程有望提速。1)應(yīng)用端:解決電動車續(xù)航痛點。據(jù)Wolfspeed測算,將純電動汽車逆變器中的功率組件改成SiC時,可降低電力電子系統(tǒng)的體積、重量和成本,提升車輛5%-10%的續(xù)航。據(jù)英飛凌測算,SiC器件整體損耗相比Si基器件降低80%以上,導(dǎo)通及開關(guān)損耗減小,有助于增加電動車續(xù)航里程。

    下游市場需求強勁,碳化硅襯底市場迎來黃金成長期導(dǎo)電型碳化硅襯底方面,受益于新能源汽車逆變器的巨大需求,將保持高速增長態(tài)勢,根據(jù)中國寬禁帶功率半導(dǎo)體及應(yīng)用產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的數(shù)據(jù)顯示,預(yù)計2020-2025年國內(nèi)市場的需求,4英寸逐步從10萬片市場減少到5萬片,6英寸晶圓將從8萬片增長到20萬片;2025~2030年:4英寸晶圓將逐漸退出市場,6英寸晶圓將增長至40萬片。半絕緣型碳化硅襯底方面,受下游5G基站強勁需求驅(qū)動,碳化硅基氮化鎵高頻射頻器件將逐步加強市場滲透,市場空間廣闊,預(yù)計2020-2025年國內(nèi)市場的需求,4英寸逐步從5萬片市場減少到2萬片,6英寸晶圓將從5萬片增長到10萬片;2025~2030年:4英寸晶圓將逐漸退出市場,保守估計6英寸晶圓將增長至20萬片。 碳化硅半導(dǎo)體完整產(chǎn)業(yè)鏈條包括:碳化硅原料-晶錠-襯底-外延-芯片-器件-模塊。

    隨著全球電子信息及太陽能光伏產(chǎn)業(yè)對硅晶片需求量的快速增長,硅晶片線切割用碳化硅微粉的需求量也正在迅速增加。以碳化硅(SiC)及GaN為**的寬禁帶材料,是繼Si和GaAs之后的第三代半導(dǎo)體。與Si及GaAs相比,SiC具有寬禁帶、高熱導(dǎo)率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率、化學性能穩(wěn)定等優(yōu)點。所以,SiC特別適合于制造高溫、高頻、高功率、抗輻射、抗腐蝕的電子器件。此外,六方SiC與GaN晶格和熱膨脹相匹配,也是制造高亮度GaN發(fā)光和激光二極管的理想襯底材料。SiC晶體目前主要應(yīng)用于光電器件如藍綠光發(fā)光二極管以及紫外光激光二極管和功率器件包括大功率肖托基二極管,MES晶體管微波器件等。哪家的碳化硅襯底成本價比較低?浙江碳化硅襯底6寸led

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SiC電子器件是微電子器件領(lǐng)域的研究熱點之一。SiC材料的擊穿電場有4MV/cm,很適合于制造高壓功率器件的有源層。而由于SiC襯底存在缺點等原因,將它直接用于器件制造時,性能不好。SiC襯底經(jīng)過外延之后,其表面缺點減少,晶格排列整齊,表面形貌良好,比襯底大為改觀,此時將其用于制造器件可以提高器件的性能。為了提高擊穿電壓,厚的外延層、好的表面形貌和較低的摻雜濃度是必需的。一些高壓雙極性器件,需外延膜的厚度超過50μm,摻雜濃度小于2×1015cm-3,載流子壽命大過1us。對于高反壓大功率器件,需要要在4H-SiC襯底上外延一層很厚的、低摻雜濃度的外延層。為了制作10KW的大功率器件,外延層厚度要達到100μm以上。高壓、大電流、高可靠性SiC電子器件的不斷發(fā)展對SiC外延薄膜提出了更多苛刻的要求,需要通過進一步深入的研究提高厚外延生長技術(shù)。北京碳化硅襯底進口

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