電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì)：閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。電池濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）增加背鈍化膜的膜厚均勻性。工業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝

要降低電池濕法設(shè)備的成本，可以從以下幾個(gè)方面入手：1.選用合適的設(shè)備：在購(gòu)買設(shè)備時(shí)，要根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的設(shè)備，不要盲目追求高級(jí)設(shè)備，以免造成不必要的浪費(fèi)。2.優(yōu)化工藝流程：通過(guò)優(yōu)化工藝流程，可以減少設(shè)備的使用量和能耗，從而降低成本。例如，可以采用更高效的電解液、調(diào)整電流密度等。3.控制原材料成本：原材料是電池濕法設(shè)備的主要成本之一，要盡可能地降低原材料成本。可以通過(guò)采購(gòu)優(yōu)良、低價(jià)的原材料、與供應(yīng)商談判降低價(jià)格等方式實(shí)現(xiàn)。4.加強(qiáng)設(shè)備維護(hù)：定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，可以延長(zhǎng)設(shè)備壽命，減少故障率，從而降低維修和更換設(shè)備的成本。5.提高生產(chǎn)效率：通過(guò)提高生產(chǎn)效率，可以減少生產(chǎn)時(shí)間和能耗，從而降低成本?？梢圆捎米詣?dòng)化生產(chǎn)線、提高工人技能水平等方式實(shí)現(xiàn)。總之，降低電池濕法設(shè)備的成本需要從多個(gè)方面入手，需要綜合考慮各種因素，才能實(shí)現(xiàn)更佳效果。上海高效濕法三頭濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)。

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過(guò)濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。

電池濕法設(shè)備能改善電池表面微觀結(jié)構(gòu)，提升硅片表面潔凈度，降低表面污染，從而提升電池轉(zhuǎn)化效率。濕法設(shè)備：釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。 HJT裝備與材料：包含制絨清洗設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、金屬化設(shè)備等。 電鍍銅設(shè)備：采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，具備低成本、高效率等優(yōu)勢(shì)。 光伏電池濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出。

專業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，需要使用一些特殊的材料和化學(xué)試劑，需要注意安全。合肥晶片濕法設(shè)備報(bào)價(jià)

電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。工業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝

光伏濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）、制絨設(shè)備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）、濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）、制絨清洗設(shè)備（XBC工藝）等；釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。工業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝