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大試驗箱規(guī)格尺寸

來源: 發(fā)布時間:2022-08-17

真空烘箱是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕,使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài),降低水的沸點,加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點。一、真空程序分段控制該型號機型,抽真空過程可提供程序化編程,只需根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值,保壓時間值。相當(dāng)大可實現(xiàn)18段抽真空和保壓編程。二、操作步驟1.接通電源;2.產(chǎn)品送入腔體,關(guān)門;3.打開電源;4.工作溫度設(shè)定好,啟動加熱,設(shè)備進入自動恒溫狀態(tài);5.真空值和時間設(shè)定好后,啟動真空泵,開始進入自動抽真空階段;6.到達時間值后,真空泵自動關(guān)閉。試驗箱哪家便宜?合肥真萍告訴您。大試驗箱規(guī)格尺寸

隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品特點。1.雙邊配有鏈條傳動,解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象;2.烘箱分段式加熱,單獨電箱控制,方便操作。結(jié)構(gòu)主要由輸送機系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成,多段單獨;3.PID溫度控制,爐內(nèi)溫度均勻;4.輸送速度變頻調(diào)速,調(diào)節(jié)自如,運行平穩(wěn),產(chǎn)能高;5.每段單獨箱體設(shè)置廢氣排放接口,可外接到車間外面,避免車間廢氣污染。高低溫恒定濕熱試驗箱的廠家試驗箱在社會上的重要性。

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;5.控溫穩(wěn)定度:2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級;9.抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)

電熱鼓風(fēng)烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼、外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板,產(chǎn)品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制,整體設(shè)計美觀大方,適合優(yōu)良實驗室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)的擱架不可調(diào)節(jié)。合肥真萍告訴您如何正確使用試驗箱?

精密鼓風(fēng)烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴(yán)格的實驗。真萍科技作為精密鼓風(fēng)烤箱的優(yōu)良原廠廠家,設(shè)備都是自主生產(chǎn)銷售,質(zhì)量可靠,品質(zhì)保證,歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風(fēng)烘箱有沒有些許了解呢,下面小編就帶大家走近精密鼓風(fēng)烘箱,為大家介紹一下真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱的參數(shù)。技術(shù)參數(shù):1.型號:CB-9023A2.產(chǎn)品類型:液晶顯示3.電源電壓:AC220V10%/50Hz2%4.控溫范圍:室溫+10℃-200℃5.溫度分辨率:0.1℃6.溫度波動度:≤0.2℃7.溫度均勻度:≤1.5%8.輸入功率:500W9.工作室尺寸(mm):300(寬)*300(深)*270(高)10.載物托架:2塊11.定時范圍:0-9999分鐘合肥真萍告訴您試驗箱如何去使用呢?重慶銷售試驗箱

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。大試驗箱規(guī)格尺寸

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