上海進口光刻膠報價

來源：發(fā)布時間：2025-05-03

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等，服務(wù)全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關(guān)系。

作為國家技術(shù)企業(yè)，吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動力，擁有多項技術(shù)，并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證。生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)，原材料均采用美、德、日等國進口的材料，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動化生產(chǎn)設(shè)備，具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力，致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”。

其明星產(chǎn)品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能；3 微米負(fù)性光刻膠 SU-3，適用于厚膜工藝；耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000，可滿足高精度微納加工需求。所有產(chǎn)品均符合要求，部分型號通過歐盟 ROHS 認(rèn)證。

耐高溫光刻膠 JT-2000，250℃環(huán)境穩(wěn)定運行，圖形保真度超 95%，用于納米結(jié)構(gòu)制造！上海進口光刻膠報價

吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進口品牌品質(zhì)，本地化服務(wù)支持

柯圖泰全系列感光膠依托進口技術(shù)，提供高性價比的絲網(wǎng)印刷解決方案。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國先進配方，分辨率達 120 線 / 英寸，適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求，其高感光度與耐摩擦性，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù)，幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低材料損耗。

福州3微米光刻膠國產(chǎn)廠家LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好?吉田半導(dǎo)體高分辨率 +低 VOC 配方!

厚板光刻膠

電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。
功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié)，保障芯片內(nèi)部電路的精細布局，提高器件的性能和可靠性。

負(fù)性光刻膠

半導(dǎo)體制造：在芯片制造過程中，用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結(jié)構(gòu)，如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移，確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）的制造中，用于制作電極、像素等大面積圖案。以 LCD 為例，負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案，控制液晶分子的排列，從而實現(xiàn)圖像顯示。

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略，通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新，成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù)，構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域，為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐。

吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作，在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項技術(shù)突破：

YK-300 正性光刻膠：分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程，良率達 98% 以上，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。
SU-3 負(fù)性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%。
JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%，性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列，已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝。

吉田產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與政策紅利。

產(chǎn)品特點：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無白點、無沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細網(wǎng)點和線條；感光度高，曝光時間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間，提高工作效率。
應(yīng)用范圍：適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細印刷需求，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。

光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用。福建水油光刻膠多少錢

半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。上海進口光刻膠報價

主要應(yīng)用場景

印刷電路板（PCB）：

? 通孔/線路加工：負(fù)性膠厚度可達20-50μm，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵、堿性氯化銅），適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm），如雙面板、多層板的外層電路。

? 阻焊層：作為絕緣保護層，覆蓋非焊盤區(qū)域，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上），負(fù)性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用。

微機電系統(tǒng)（MEMS）：

? 深硅蝕刻（DRIE）：負(fù)性膠作為蝕刻掩膜，厚度可達100μm以上，耐SF?等強腐蝕性氣體，用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）。

? 模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具，利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。

平板顯示（LCD）：

? 彩色濾光片（CF）基板預(yù)處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層，耐濕法蝕刻（如HF溶液），確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

功率半導(dǎo)體與分立器件：

? IGBT、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm），耐高濃度酸堿蝕刻，降低工藝成本。

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標(biāo)簽：光刻膠錫膏錫片

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